中國公司打破索尼壟斷!業(yè)內(nèi)首顆,國產(chǎn)1.8億像素全畫幅CIS芯片成功試產(chǎn)!
為滿足8K高清化的產(chǎn)業(yè)要求,高性能CIS的需求與日俱增。晶合集成基于自主研發(fā)的55納米工藝平臺,攜手思特威共同開發(fā)光刻拼接技術(shù),克服了在像素列中拼接精度管控以及良率提升等困難,成功突破了在單個芯片尺寸上,所能覆蓋一個常規(guī)光罩的極限,同時確保在納米級的制造工藝中,拼接后的芯片依然保證電學(xué)性能和光學(xué)性能的連貫一致。
(拍攝樣圖)
首顆1.8億像素全畫幅CIS的成功試產(chǎn),既標(biāo)志著光刻拼接技術(shù)在大靶面?zhèn)鞲衅黝I(lǐng)域的成功運用,也為未來更多大靶面全畫幅、中畫幅傳感器的開發(fā)鋪平了道路。同時,該產(chǎn)品具備1.8億超高像素 8K 30fps PixGain HDR模式高幀率及超高動態(tài)范圍等多項領(lǐng)先性能,創(chuàng)新優(yōu)化光學(xué)結(jié)構(gòu),可兼容不同光學(xué)鏡頭,提升產(chǎn)品在終端靈活應(yīng)用的適配能力,打破了日本索尼在超高像素全畫幅CIS領(lǐng)域長期壟斷地位,為本土產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻力量。
來源:EETOP
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