「7納米以下」芯片光刻技術獲專利！外媒：中國大陸正迎頭趕上

中國大陸在先進芯片制造領域正逐漸縮小與西方的差距。外媒報導，上海微電子裝備（集團）股份有限公司日前公布了一系列制造7納米以下芯片關鍵能力的專利，該消息也得到了德國等海外專業(yè)媒體的注意，稱大陸在芯片領域正在迎頭趕上。

德國之聲引述包括「芯智訊」在內的網(wǎng)絡媒體報導稱，大陸國家知識產權局于10日披露了一項名為「極紫外輻射發(fā)生裝置及光刻設備」的發(fā)明專利，內容涉及極紫外輻射（EUV）發(fā)生裝置及光刻設備，申請者為上海微電子裝備（集團）股份有限公司。

報導指，EUV光刻技術是一種先進的芯片制造技術，可以在半導體晶圓上繪制極其精細的電路，從而生產出更小、更強大的芯片。這項技術使用極紫外光（EUV）作為光源，比傳統(tǒng)光刻技術能實現(xiàn)更高的精度。擁有EUV光刻技術專利意味著掌握了制造7納米以下芯片的關鍵能力。

據(jù)相關報導，上海微電子此次披露的專利主要涉及EUV 光源和光刻設備，其中重點的極紫外輻射發(fā)生器（光源）主要包括腔體、靶材發(fā)生器、雷射發(fā)生器、收集鏡、電極板、氣控零件等關鍵零件。

該消息也引起了德國科技時政類媒體Telepolis的關注。該媒體近日報導稱，中國大陸在芯片領域正在迎頭趕上。

報導認為，中國的技術進步幾乎勢不可擋。中國光刻設備市場99％的份額由荷蘭艾司摩爾（AMSL）及日本的尼康和佳能控制。只有艾司摩爾生產7納米以下芯片的設備。然而，艾司摩爾在為中國大陸客戶提供服務方面面臨壓力，中國是其僅次于臺灣的第二大市場。

根據(jù)2023年年報，艾司摩爾僅能滿足中國大陸訂單的50％。據(jù)香港《南華早報》報導，自9月6日起，艾司摩爾在中國大陸提供零件、軟件更新和系統(tǒng)維護需要獲得荷蘭許可證。此前，需在美國獲得出口許可。

而據(jù)陸媒報導，中國大陸的通訊設備公司華為最新推出的Mate XT三折迭屏幕手機采用的麒麟9000處理器基于5納米工藝制成。這也表明盡管備受國際制裁，陸企仍有能力生產出7納米以下的先進芯片。

但與此同時，也有分析人士認為，華為和其合作伙伴找到了規(guī)避芯片設備出口管制的管道，目前還沒有壓倒性證據(jù)表明華為擁有這些關鍵技術的完全本土供應鏈。