新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 意法宣布晶圓廠即將投產(chǎn)28納米FD-SOI制程技術(shù)

意法宣布晶圓廠即將投產(chǎn)28納米FD-SOI制程技術(shù)

作者: 時間:2012-12-13 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  橫跨多重電子應(yīng)用領(lǐng)域、全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體供應(yīng)商半導(dǎo)體(STMicroelectronics,簡稱ST;紐約證券交易所代碼:STM)宣布其在28 技術(shù)平臺的研發(fā)上又向前邁出一大步,即將在位于法國Crolles的12寸(300mm)晶圓廠投產(chǎn)該制程技術(shù),這證明了半導(dǎo)體以28技術(shù)節(jié)點提供平面全耗盡技術(shù)的能力。在實現(xiàn)極其出色的圖形、多媒體處理性能和高速寬帶連接功能的同時,而不犧牲電池的使用壽命的情況下,嵌入式處理器需具有市場上最高的性能及最低的功耗,半導(dǎo)體28技術(shù)的投產(chǎn)可解決這一挑戰(zhàn),滿足多媒體和便攜應(yīng)用市場的需求。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/140059.htm

  技術(shù)平臺包括全功能且經(jīng)過硅驗證的設(shè)計平臺和設(shè)計流程。技術(shù)平臺包括全套的基礎(chǔ)程式庫(標(biāo)準(zhǔn)單元、存儲器生成器、I/O、AMS IP以及高速接口);設(shè)計流程適合開發(fā)高速的高能效器件。

  較傳統(tǒng)制造技術(shù),技術(shù)可在大幅提升性能的同時大幅降低功耗,因此ST-Ericsson選擇采用意法半導(dǎo)體的FD-SOI技術(shù)設(shè)計未來的移動平臺。

  意法半導(dǎo)體執(zhí)行副總裁、數(shù)字產(chǎn)品部總經(jīng)理兼首席技術(shù)與制造官Jean-Marc Chery表示:“在產(chǎn)品和技術(shù)研發(fā)領(lǐng)域,意法半導(dǎo)體在很久以前就開始探索新的解決方案。FD-SOI技術(shù)的投產(chǎn),使意法半導(dǎo)體再次躋身全球最具創(chuàng)新力的半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)制造企業(yè)之列,后端晶圓測試證明,較傳統(tǒng)制造技術(shù),F(xiàn)D-SOI在性能和功耗方面具有明顯優(yōu)勢,讓我們能夠在28納米技術(shù)節(jié)點創(chuàng)建高成本效益的工業(yè)解決方案。ST-Ericsson的 NovaThor ModAp的最大處理頻率超過2.5Ghz,在0.6V時達到800MHz,對該平臺的子系統(tǒng)的測試證明,該技術(shù)符合設(shè)計預(yù)期,具有靈活性和寬電壓范圍,可支持電壓和頻率動態(tài)調(diào)整(DVFS)。”

  與制造成功同等重要的是,意法半導(dǎo)體發(fā)現(xiàn)了從28納米傳統(tǒng)CMOS制程(Bulk CMOS)向 28納米FD-SOI移植代碼庫和物理IP的簡單方法,由于沒有 MOS歷史效應(yīng),用傳統(tǒng)CAD工具和方法設(shè)計FD-SOI數(shù)字系統(tǒng)級芯片的過程與設(shè)計體效應(yīng)器件完全相同。FD-SOI能夠用于制造高能效的器件,必要時,動態(tài)體偏壓能讓器件立即進入高性能模式,而其余時間保持在低泄漏電流模式,這些對于應(yīng)用軟件、操作系統(tǒng)和高速緩存系統(tǒng)都完全透明。較體效應(yīng)CMOS制程技術(shù),F(xiàn)D-SOI可實現(xiàn)更優(yōu)異的性能及低工作電壓,并擁有非常出色的能效。



關(guān)鍵詞: 意法 納米 FD-SOI

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉