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IC智能卡失效的機(jī)理研究

作者: 時(shí)間:2010-08-11 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
作為信息時(shí)代的新型高技術(shù)存儲(chǔ)產(chǎn)品,具有容量大、保密性強(qiáng)以及攜帶方便等優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于社會(huì)生活的各個(gè)領(lǐng)域。通常所說的卡,是把含有非揮發(fā)存儲(chǔ)單元NVM或集成有微控制器MCU等的芯片嵌裝于塑料基片而成,主要包括塑料基片(有或沒有磁條)、接觸面、IC芯片3個(gè)部分。傳統(tǒng)的IC卡制作工序?yàn)?對(duì)測(cè)試、信息寫入后的硅晶圓片進(jìn)行減薄、劃片,分離成小芯片,再經(jīng)裝片、引線鍵合、包封等工序制成IC卡模塊,最后嵌入IC卡塑料基板。

  隨著IC產(chǎn)品制造工藝的提高以及高性能LSI的涌現(xiàn),IC不斷向功能多樣化、智能化的方向發(fā)展,以滿足人們對(duì)方便、迅捷的追求。然而使用過程中出現(xiàn)的密碼校驗(yàn)錯(cuò)誤、數(shù)據(jù)丟失、數(shù)據(jù)寫入出錯(cuò)、亂碼、全“0”全“F”等諸多問題,嚴(yán)重影響了IC卡的廣泛應(yīng)用。因此,有必要結(jié)合IC卡的制作工藝及使用環(huán)境對(duì)的IC卡進(jìn)行分析,深入模式及失效,探索引起失效的根本原因,以便采取相應(yīng)的措施,改進(jìn)IC卡的質(zhì)量和性能1。

  由IC卡失效樣品的分析實(shí)例發(fā)現(xiàn),芯片碎裂、內(nèi)連引線脫落(脫焊、虛焊等)、芯片電路擊穿等現(xiàn)象是引起IC卡失效的主要原因,本文著重對(duì)IC卡芯片碎裂、鍵合失效模式及進(jìn)行和討論,并簡(jiǎn)略介紹其他失效模式。

  1 芯片碎裂引起的失效
  由于IC卡使用薄/超薄芯片,芯片碎裂是導(dǎo)致其失效的主要原因,約占失效總數(shù)的一半以上,主要表現(xiàn)為IC卡數(shù)據(jù)寫入錯(cuò)、亂碼、全“0”全“F”。
  對(duì)不同公司提供的1739張失效IC卡進(jìn)行電學(xué)測(cè)試,選取其中失效模式為全“0”全“F”的100個(gè)樣品進(jìn)行IC卡的正、背面腐蝕開封,光學(xué)顯微鏡(OM)觀察發(fā)現(xiàn)裂紋形狀多為“十”字、“T”字型,亦有部分為貫穿芯片的單條裂紋,并在頂針作用點(diǎn)處略有彎折,如圖1。碎裂芯片中的裂紋50%以上,位于芯片中央附近并垂直于邊緣;其余芯片的裂紋靠近芯片邊緣或集中于芯片。
圖1 芯片背面碎裂的OM照片
  下面根據(jù)芯片碎裂物理,結(jié)合IC卡制作工藝(包括硅片的后道工序、模塊條帶制作、IC卡成型工藝),對(duì)導(dǎo)致IC卡薄芯片碎裂的根本原因進(jìn)行深入分析。

圖2 芯片背面研磨損傷的OM照片
  1.1 硅片減薄
  標(biāo)準(zhǔn)的硅片背面減薄工藝包括貼片、磨片(粗磨、細(xì)磨)、腐蝕三道工序。常用的機(jī)械磨削法不可避免地會(huì)造成硅片表面和亞表面的損傷(圖2),表面損傷分為3層:有微裂紋分布的非晶層;較深的晶格位錯(cuò)層;彈性變形層。粗磨、細(xì)磨后,硅片背面仍留有深度為15~20μm、存在微損傷及微裂紋的薄層,極大影響了硅片的強(qiáng)度。因此,需要用腐蝕法來去除硅片背面殘留的晶格損傷層,避免硅片因殘余應(yīng)力而發(fā)生碎裂。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)原始厚度為725μm的硅片,經(jīng)磨片后,腐蝕深度約為25μm時(shí)可得到最大的強(qiáng)度值3;同時(shí),分析表明,芯片在鍵合與測(cè)試時(shí)發(fā)生碎裂,往往是由于磨片時(shí)造成的損傷在隨后的腐蝕或化學(xué)機(jī)械拋光中沒有被完全去除而引起的。
  對(duì)于碎裂面垂直于芯片表面,深a、長(zhǎng)2b的二維半橢圓型裂紋而言,則滿足Ccr=[(Φ2KIC2)/(1。2πσIC2)][2],其中Ccr=(acrbcr)1/2,acr為臨界裂紋深度,bcr為臨界裂紋半長(zhǎng);裂紋幾何因子Φ=(1。2π)1/2/Y。設(shè)裂紋長(zhǎng)為2b,深度恒定為1μm,代入斷裂韌度KIC=0。82MPa,Y=1。42得,平面應(yīng)力狀態(tài)常載荷條件下碎裂的臨界強(qiáng)度σ=0。58/4b(GPa),σ與芯片背面殘留裂紋長(zhǎng)度、深度的對(duì)應(yīng)關(guān)系如圖3(b)??梢?,芯片碎裂臨界強(qiáng)度隨著微裂紋長(zhǎng)度的增大而急劇降低,當(dāng)裂紋大于1μm時(shí),下降趨勢(shì)逐漸平緩,并趨于穩(wěn)定小值。
  磨片過程不僅會(huì)造成硅片背面的微裂紋,且表面的殘余應(yīng)力還會(huì)引起硅片翹曲。硅片的背面減薄工芯對(duì)芯片碎裂有著直接的影響,因此需要開發(fā)新技術(shù),實(shí)現(xiàn)背面減薄工藝集成,以提高硅片減薄的效率,減少芯片的碎裂。
  減薄后的硅片被送進(jìn)劃片機(jī)進(jìn)行劃片,劃片槽的斷面往往比較粗糙,通常存在少量微裂紋和凹坑;有些地方甚至存在劃片未劃到底的情況,取片時(shí)就要靠頂針的頂力作用使芯片“被迫”分離,斷口呈不規(guī)則狀,如圖4為多個(gè)樣品的疊加圖。實(shí)驗(yàn)表明,劃片引起芯片邊緣的損傷同樣會(huì)嚴(yán)重影響芯片的碎裂強(qiáng)度。例如:斷口存在微裂紋或凹槽的芯片,在后續(xù)的引線鍵合工藝的瞬時(shí)沖擊下或者包封后熱處理過程中由于熱膨脹系數(shù)(CTE)的不匹配產(chǎn)生的應(yīng)力使微裂紋擴(kuò)展而發(fā)生碎裂。
  為減少劃片工藝對(duì)芯片的損傷,目前已有新的劃片技術(shù)相繼問世:先劃片后減薄(dicingbeforegrinding,DBG)法和減薄劃片法(dicingbythinning,DBT)5,即在硅片背面減薄之前,先用磨削或腐蝕方式在正面切割出切口,實(shí)現(xiàn)減薄后芯片的自動(dòng)分離。這兩種方法可以很好地避免/減少因減薄引起的硅片翹曲以及劃片引起的芯片邊緣損傷。此外,采用非機(jī)械接觸加工的激光劃片技術(shù)也可避免機(jī)械劃片所產(chǎn)生的微裂痕、碎片等現(xiàn)象,大大地提高成品率。
  1.3 模塊工藝
  模塊工藝包括裝片、包封等工序)的裝片過程中,裝片機(jī)頂針從貼片膜上頂起芯片,由真空吸頭吸起芯片,將其粘結(jié)到芯片卡的引線框上。若裝片機(jī)工藝參數(shù)調(diào)整不當(dāng),亦會(huì)造成芯片背面損傷,嚴(yán)重影響芯片強(qiáng)度:如頂針頂力不均或過大,導(dǎo)致頂針刺穿藍(lán)膜而直接作用于芯片,在芯片背面留有圓型損傷坑;或頂針在芯片背面有一定量的平等滑移過程,留下較大面積的劃痕,此現(xiàn)象在碎裂芯片中占了相當(dāng)比例。
  Fig頂針作用可等效為Vicker壓痕器4壓載過程,將對(duì)芯片表面造成局部損傷?,F(xiàn)將頂針對(duì)芯片背面的觸碰過程(暫不考慮頂針的滑移)簡(jiǎn)化為球?qū)ΨQ平面垂直加載的理想情況,則兩者接觸圓半徑a隨垂直載荷P的變化為a=34PR(1-v2)/E+(1-v′2)/E′1/3=αP1/3,式中R是頂針端部半徑,E,v和E′,v′分別為芯片、頂針端部的楊氏模量和泊松比。在接觸圓的邊緣,芯片的張應(yīng)力分量達(dá)到極大值σm=12(1-2v)P0,其中P0=P/πα2是端部所受的垂直應(yīng)力,σm為作用在徑向方向并且與材料表面平等的應(yīng)力。由于頂針尖端半徑較小,取硅材料v=0。28,在1N頂力作用下,得到芯片張力分量極大值與接觸半徑的對(duì)應(yīng)關(guān)系如圖5??梢?,初始情況下,接觸半徑很小,芯片張力分量初始值可達(dá)到GPa量級(jí),與前面計(jì)算結(jié)果比較可知,頂針過程是芯片碎裂的一個(gè)主要誘因。
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