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華虹NEC與Synopsys攜手開發(fā)參考設計流程2.0

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作者:電子產(chǎn)品世界 時間:2006-10-16 來源:eepw 收藏
選擇作為其首選EDA供應商 

全球領先的電子設計自動化(EDA)軟件工具領導廠商 與中國最先進的集成電路制造商之一上海電子有限公司今日宣布,雙方將攜手開發(fā)應用于 0.18微米工藝的 2.0。華虹NEC選擇作為其首選EDA供應商后,將充分利用Synopsys Professional Services開發(fā)基于Synopsys Galaxy™設計平臺和Discovery™ 驗證平臺,以及華虹NEC I/O和標準單元庫的完整RTL-to-GDSII。

華虹NEC和Synopsys聯(lián)合開發(fā)的2.0助設計人員應對時序閉合的挑戰(zhàn),降低風險并實現(xiàn)復雜的系統(tǒng)級芯片(SoC)的預期成功。該流程采用具有RTL合成、物理實現(xiàn)和簽證功能的 Galaxy設計平臺,以及包括RTL仿真VCS®解決方案的Discovery驗證平臺。參考設計流程2.0的最新功能包括Jupiter-XT™ 設計規(guī)劃解決方案具備的增強型平面,以及DFT MAX 和 TetraMAX®工具具備的可設計(DFT)和自動圖形生成(ATPG)能力。

華虹NEC-Synopsys 參考設計流程2.0還采用Synopsys完整的集成電路部署解決方案,包括RTL合成、、功率優(yōu)化和物理設計。此外,參考設計流程2.0還包括用于整個芯片功率分析的PrimePower、用于最終設計簽證的PrimeTime® SI、Star-RCXT™ 和 Hercules™ 解決方案,以及Formality® 等效檢查器。通過采用DesignWare® 庫可以實現(xiàn)廣泛的設計兼容性和IP驗證。

華虹NEC設計服務部高級總監(jiān)李向陽表示:“這一解決方案將幫助我們的客戶提供高性能低風險的半導體產(chǎn)品。Synopsys的Galaxy設計平臺和Discovery驗證平臺與我們成熟的標準元件庫相結合,將有助于我們的客戶解決復雜的設計問題,同時滿足對產(chǎn)品上市時間的苛刻要求?!?
Synopsys戰(zhàn)略市場開發(fā)部副總裁Rich Goldman表示:“華虹NEC需要成熟的硅設計流程來幫助其客戶實現(xiàn)復雜SoC設計的預期成功。因此,我們雙方一直在密切合作以保證Synopsys的設計流程與華虹NEC的硅工藝實現(xiàn)無縫整合,為我們共有的客戶提供經(jīng)過測試的RTL-to-GDSII 解決方案。我們希望未來可以與上海華虹NEC繼續(xù)保持良好的合作,共同開發(fā)更多先進的硅技術?!?nbsp;

流程發(fā)布

從即日起,客戶可以通過華虹NEC的客戶經(jīng)理申請華虹NCE-Synopsys參考設計流程2.0。


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