2013年iNEMI技術(shù)路線圖與IPC國(guó)際路線圖形成互補(bǔ)

　　IPC-國(guó)際電子工業(yè)聯(lián)接協(xié)會(huì)®與國(guó)際電子制造商聯(lián)盟(iNEMI)達(dá)成一致協(xié)議，決定把《2013年iNEMI技術(shù)路線圖》放在IPC在線書店中銷售，作為《IPC國(guó)際電子技術(shù)路線圖》的補(bǔ)充信息。

　　作為第十版的《2013年iNEMI技術(shù)路線圖》，為電子制造業(yè)描繪了未來十年的重大發(fā)展趨勢(shì)，包括云計(jì)算、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)和傳感器的增長(zhǎng)狀況、資源回收等可持續(xù)性發(fā)展等問題，尖端技術(shù)缺口和研發(fā)領(lǐng)域在路線圖中也有詳盡描述。

　　《2013年iNEMI技術(shù)路線圖》描繪了未來市場(chǎng)需要的產(chǎn)品和性能，IPC技術(shù)轉(zhuǎn)讓總監(jiān)Marc Carter把它定義為“是什么”;而《IPC國(guó)際電子技術(shù)路線圖》描繪了構(gòu)建這些產(chǎn)品的特定工具，Carter把它定義為“怎么做”。這兩種路線圖從不同的層面幫助業(yè)界識(shí)別各自特定技術(shù)路線的差異。

　　《2013年iNEMI技術(shù)路線圖》全文1900頁，包括26個(gè)章節(jié)、336個(gè)圖表、515個(gè)圖形，由18個(gè)國(guó)家的350余家企業(yè)、企業(yè)聯(lián)盟、政府機(jī)構(gòu)和院校的650余人，共同開發(fā)而成。