晶體硅太陽電池擴散氣氛場均勻性研究
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2．1 工藝氣體流量對爐內(nèi)溫度的影響
在工藝溫度穩(wěn)定條件下，關(guān)閉小N2(磷源bubbler bottle)，通過手動調(diào)節(jié)大N2流量，試驗記錄擴散爐石英反應(yīng)管內(nèi)爐口、爐中、爐尾3段Profile TC(tlaermal couple)溫度隨爐內(nèi)氣體流量(壓強)的變化情況，以研究爐內(nèi)氣氛場氣體流量(壓強)變化對與擴散均勻性密切關(guān)聯(lián)的溫度影響程度和趨勢。試驗過程包括：
(1)檢查爐門及各氣路連接處的密封性；
(2)設(shè)備溫度PID參數(shù)自整定；
(3)手動調(diào)節(jié)大N2流量，從25 L／min，增加到27 L/min，記錄流量調(diào)節(jié)前后穩(wěn)定溫度值和流量變化導(dǎo)致的溫度動態(tài)偏差值，見表1；
(4)手動調(diào)節(jié)大N2流量，從25L／min，減少到23 L/min，記錄流量調(diào)節(jié)前后穩(wěn)定溫度值和流量變化導(dǎo)致的溫度動態(tài)偏差值，見表2，表中Zone1為爐尾，Zone2是爐中尾，Zone3為爐中，Zone4是爐中口，Zone5為爐口。
從表1和表2的數(shù)據(jù)可看出，氣流量由25 L／min向27 L／min變化，爐尾溫度降低1℃，爐口溫度無變化，氣流量由25 L／min減少到23 L／min，爐尾溫度升高1℃，爐口溫度降低1℃。本文引用地址：http://butianyuan.cn/article/181202.htm
2．3 廢氣排放位置對爐口均勻性的影響
擴散爐恒溫區(qū)的有限性與生產(chǎn)產(chǎn)量的最大化是矛盾關(guān)聯(lián)的。在生產(chǎn)中，需要在恒溫區(qū)最大限度地放置擴散硅片，保證恒溫區(qū)溫度的精度和穩(wěn)定性。因配置懸臂式裝載系統(tǒng)的擴散爐爐口對溫度的干擾最大，可將廢氣管口盡可能地靠近爐門，同時也能改善靠近爐口方向硅片反應(yīng)區(qū)域氣氛場的均勻性。因此，分別調(diào)整廢氣排放位置并進(jìn)行試驗對比。
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