新聞中心

EEPW首頁 > 電源與新能源 > 設(shè)計應(yīng)用 > 晶體硅太陽電池擴散氣氛場均勻性研究

晶體硅太陽電池擴散氣氛場均勻性研究

作者: 時間:2009-10-16 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

從表4可看出,廢氣排放口離恒溫區(qū)越遠(yuǎn),即離爐口越近,爐口的方阻片內(nèi)/片間性改善越好,但廢氣排放的同時也有大量熱能的排放,在排放口區(qū)域聚集的熱能較多,因考慮到爐門的低溫(一般為小于200℃)要求,在一定程度上又限制了排放口到爐門的距離不能太近。所以,生產(chǎn)中廢氣排放口的較佳位置是在一個兩向平衡距離范圍內(nèi)。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/181202.htm

2.4 排風(fēng)量大小對爐口性的影響
當(dāng)進入爐石英管內(nèi)的工藝氣體總流量一定時,排風(fēng)量大小的設(shè)定直接影響爐內(nèi)的場壓強變化,而場壓強又與爐內(nèi)工藝氣體的濃度相關(guān)聯(lián).從而影響性,尤其是爐口的均勻性。
通過表5分析爐口片內(nèi)極差大的具體原因,得到極差大主要是由硅片下半部分方塊電阻大造成的,而這下半部分又與排氣口最近,故采取調(diào)小排氣閥開度,增加爐內(nèi)壓強,間接地增加工藝氣體反應(yīng)時間,從而改善爐口片內(nèi)均勻性和片間均勻性。對于穩(wěn)定生產(chǎn)而言,爐內(nèi)壓強的最佳值是在一定范圍內(nèi)的,這就要求工藝反應(yīng)氣體流量與廢氣排放量需保持一個整體平衡。


3 結(jié)束語
的主要工藝制作過程包括制絨、擴散、刻蝕、鍍膜、印刷、燒結(jié)等,每道工序的相關(guān)控制參數(shù)都直接或間接地與電性能參數(shù)相關(guān)聯(lián)。對于擴散工序而言,擴散的均勻性直接體現(xiàn)在硅片形成的P-N結(jié)結(jié)深差異性上,均勻性好反映出結(jié)深差異性小,反之亦然。
而不同的P-N結(jié)結(jié)深其燒結(jié)條件不一樣。從另一方面,同樣的燒結(jié)條件生產(chǎn)應(yīng)用于擴散均勻性好的在制片,其歐姆接觸性能、填充因子等電性能參數(shù)一致性好,最終體現(xiàn)在電池的轉(zhuǎn)換效率一致性的可控性。用實驗方法分析影響電池擴散均勻性的場因素及其工藝調(diào)節(jié)優(yōu)化改善方法,在工藝調(diào)試過程中需要注意這些氣氛場因素是相互關(guān)聯(lián)影響的,一般先優(yōu)化改善均流板的均勻分流設(shè)計和廢氣排放位置因素,再綜合工藝氣體流量、排氣量等其他相關(guān)因素系統(tǒng)調(diào)整爐內(nèi)壓強平衡。通過擴散均勻性的優(yōu)化調(diào)節(jié)。可以很好地改善太陽電池的填充因子FF、并聯(lián)電阻Rsh、串聯(lián)電阻Rs和開路電壓Ucc等電性能,從而降低電池的制造成本。


上一頁 1 2 3 下一頁

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉