中國電子芯片產(chǎn)業(yè)集中爆發(fā) 三星/臺積電搶著代工
韓國三星電子(Samsung)近日在上海舉辦技術(shù)論壇,本次會議主要議題是宣布其新的晶圓代工策略,同時也是為爭取大陸IC設計廠代工訂單。三星指出,預計今年底10納米可以上線,7納米制程將采用最先進的極紫外光(EUV)微影技術(shù),并將針對物聯(lián)網(wǎng)及汽車電子提供低功耗的28納米FD-SOI制程。
本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/201609/296444.htm同時,三星原本只生產(chǎn)自有芯片的8寸晶圓廠,現(xiàn)在也將開放并爭取模擬IC或LCD驅(qū)動IC等晶圓代工訂單。
臺灣晶圓代工廠臺積電、聯(lián)電、力晶等已分別以獨資或合資方式在大陸建造晶圓代工廠,三星電子在中國的最大投資是西安的閃存制造廠,并沒有在大陸設立晶圓代工廠的計劃。
三星的晶圓代工晶圓廠主要有三個廠址,包括位于韓國的8寸晶圓廠S1、位于美國得州的12寸晶圓廠S2、以及位于韓國京畿道華城市的12寸晶圓廠S3。另外,三星也將與臺積電一樣,提供后段封測服務。而三星預估今年包含晶圓代工的月產(chǎn)能將達13.5~14萬片12寸晶圓及19萬片8寸晶圓,且預估至2017年底產(chǎn)能將擴充約15%。
隨著臺積電宣布今年底將量產(chǎn)10納米制程,2018年開始量產(chǎn)7納米制程,三星也在技術(shù)論壇中說明先進制程布局,包括今年底可望開始進行10納米試產(chǎn),但將跳過采用浸潤式微影技術(shù)的7納米,直接推出采用EUV微影技術(shù)的7納米,預計至2018年底EUV技術(shù)可在250W光源下每天生產(chǎn)1500片晶圓。三星認為,7納米采用EUV可以更好控制成本,有助于爭取先進制程晶圓代工訂單。
三星認為在中國國內(nèi)的移動支付、無人機、電動車、自駕車等供應鏈有很好的創(chuàng)新,也將帶來新機會,所以除了支持先進制程,也將在明年第二季開始,提供可支持物聯(lián)網(wǎng)及汽車電子的28納米FD-SOI制程。同時,三星也將開放8寸廠產(chǎn)能,配合本身在內(nèi)存市場的優(yōu)勢提供65納米嵌入式閃存(eFlash)制程,以及70納米高壓制程,爭取大陸市場模擬IC、CMOS圖像感測器、LCD驅(qū)動IC等代工訂單。
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