EUV在手天下我有 ASML二季度表現(xiàn)亮眼

　　全球最大芯片光刻設(shè)備市場(chǎng)供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財(cái)報(bào)。ASML第二季營(yíng)收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺(tái)，總值高達(dá)28億歐元。

　　預(yù)估2017第三季營(yíng)收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因?yàn)槭袌?chǎng)需求和第二季的強(qiáng)勁財(cái)務(wù)表現(xiàn)，ASML預(yù)估2017全年?duì)I收成長(zhǎng)可達(dá)25%。

　　ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)溫彼得指出:“ASML今年的主要營(yíng)收貢獻(xiàn)來(lái)自?xún)?nèi)存芯片客戶(hù)，尤其在DRAM市場(chǎng)需求的驅(qū)動(dòng)下，這部分的營(yíng)收預(yù)估將比去年成長(zhǎng)50%，而來(lái)自邏輯芯片方面的營(yíng)收也可望成長(zhǎng)15%。除了DUV光刻系統(tǒng)的業(yè)務(wù)持續(xù)成長(zhǎng)，在EUV光刻系統(tǒng)部分，未出貨訂單累積金額在第二季已經(jīng)累積到28億歐元，顯示不論邏輯芯片和DRAM客戶(hù)都積極準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入芯片量產(chǎn)階段。”

　　此外，ASML近年來(lái)積極推行系統(tǒng)升級(jí)業(yè)務(wù)，該部分的營(yíng)收貢獻(xiàn)可望在今年成長(zhǎng)20%。“綜合市場(chǎng)和各業(yè)務(wù)領(lǐng)域的捷報(bào)，我們認(rèn)為成長(zhǎng)動(dòng)能將延續(xù)到2018年，”溫彼得說(shuō)。

　　二季度的營(yíng)收主力，EUV表現(xiàn)亮眼

　　作為為數(shù)不多的芯片光刻設(shè)備供應(yīng)商，唯一一家EUV設(shè)備提供商，ASML在剛過(guò)去的一個(gè)季度表現(xiàn)非常亮眼，主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：

　　(1)深紫外光(DUV)光刻

　　ASML推出最新浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXT:2000i，具備多項(xiàng)硬件技術(shù)創(chuàng)新，讓客戶(hù)得以在7奈米和5奈米制程節(jié)點(diǎn)上，同時(shí)用浸潤(rùn)式光刻和EUV系統(tǒng)進(jìn)行量產(chǎn)，并達(dá)到2.5奈米的迭對(duì)精度。另一方面，3D NAND客戶(hù)對(duì)于KrF干式光刻系統(tǒng)的需求持續(xù)升高，目前TWINSCA NXT:860的未出貨訂單已累積超過(guò)20臺(tái)。TWINSCA NXT:860系統(tǒng)的生產(chǎn)力可達(dá)到每天曝光5,300片晶圓。

　　(2)全方位光刻優(yōu)化方案

　　本季開(kāi)始出貨最新的Yield Star 375F量測(cè)系統(tǒng)，具備最新的光學(xué)技術(shù)，可更快、更精準(zhǔn)的獲取量測(cè)結(jié)果。

　　(3)極紫外光光刻

　　在荷蘭總部已經(jīng)成功將升級(jí)的EUV光源整合進(jìn)NXE:3400B系統(tǒng)中，并達(dá)成每小時(shí)輸出125片晶圓的生產(chǎn)力指標(biāo)。至此，ASML的EUV系統(tǒng)已經(jīng)成功達(dá)成所有計(jì)劃中的關(guān)鍵效能指標(biāo)，下一階段，ASML將專(zhuān)注于達(dá)成滿足客戶(hù)在量產(chǎn)時(shí)所需的相關(guān)妥善率(availability)指標(biāo)，并持續(xù)提升系統(tǒng)生產(chǎn)力。

　　在第二季當(dāng)中，ASML也完成了對(duì)德國(guó)卡爾蔡司旗下蔡司半導(dǎo)體(Carl Zeiss SMT)24.9%的股權(quán)收購(gòu)，以進(jìn)一步深化雙方的策略伙伴關(guān)系，共同發(fā)展下一代EUV光刻系統(tǒng)。

　　展望2017年第三季，ASML預(yù)估整體銷(xiāo)售凈額可達(dá)22億歐元，毛利率約落在43%，其中包含約3億歐元的EUV營(yíng)收認(rèn)列。研發(fā)投資金額提高到3.15億歐元，其他收入部份(包括來(lái)自于客戶(hù)共同投資計(jì)劃的收入)約為2,400萬(wàn)歐元，而管銷(xiāo)費(fèi)用(SG&A)支出則約1.05億歐元，年化稅率約14%。ASML預(yù)計(jì)在第三季會(huì)有另外3臺(tái)NXE:3400B EUV光刻系統(tǒng)完成出貨。

　　ASML：現(xiàn)代芯片不可或缺的支持者

　　阿斯麥公司ASML Holding NV創(chuàng)立于1984年，是從飛利浦獨(dú)立出來(lái)的一個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備制造商。前稱(chēng)ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改為現(xiàn)用名，總部位于荷蘭費(fèi)爾德霍芬，全職雇員12,168人，是一家半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)計(jì)、制造及銷(xiāo)售公司。

　　阿斯麥公司為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。

　　目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購(gòu)TWINSCAN機(jī)型，例如英特爾，三星，海力士，臺(tái)積電，聯(lián)電，格芯及其它半導(dǎo)體廠。隨著摩爾定律的發(fā)展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級(jí)的EUV光刻系統(tǒng)，全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。

　　ASML的光刻機(jī)怎樣幫芯片助力?我們可以看一下ASML官方的介紹：

　　簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，我們制造的光刻設(shè)備是一種投影系統(tǒng)。這個(gè)設(shè)備由50000個(gè)零件組裝而成。

　　實(shí)際使用過(guò)程中，則通過(guò)激光束被投穿過(guò)一片印著圖案的藍(lán)圖或光掩模，光學(xué)鏡片將圖案聚焦在有著光感化學(xué)涂層的硅晶圓上，當(dāng)未受曝光的部分被蝕刻掉時(shí)，圖案隨即顯現(xiàn)…

　　此制程被一再重復(fù)，用以在單個(gè)芯片上制造數(shù)以十億計(jì)的微型結(jié)構(gòu)。晶圓以2納米的精準(zhǔn)度互相疊加，并加速移動(dòng)，快如閃電，達(dá)到這種精確度可謂高科技，要知道，即使頭發(fā)絲也有十萬(wàn)納米，2納米的精細(xì)可想而知。

　　未來(lái)，只有他的EUV光刻機(jī)能夠幫助芯片接續(xù)微縮，因此這些設(shè)備縱使賣(mài)到上億歐元，都能被客戶(hù)所接受。