新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 下一代手機(jī)芯片升級的核心驅(qū)動力 7nm制程工藝好在哪?

下一代手機(jī)芯片升級的核心驅(qū)動力 7nm制程工藝好在哪?

作者: 時間:2018-08-14 來源:泡泡網(wǎng) 收藏
編者按:制程工藝似乎成為手機(jī)芯片升級換代的一大核心點,那么7nm制程工藝好在哪,對用戶來說有何價值呢?

  2018年下半年,行業(yè)即將迎來全新制程工藝,而打頭陣的無疑是移動,目前已知的包括蘋果Apple A12/華為麒麟980以及高通驍龍855都是基于工藝,制程工藝似乎成為手機(jī)升級換代的一大核心點,那么制程工藝好在哪,對用戶來說有何價值呢?

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/201808/390508.htm


image.png


  根據(jù)百度百科的定義,通常我們所說的CPU的“制作工藝”,是指在生產(chǎn)CPU過程中,集成電路的精細(xì)度,也就是說精度越高,生產(chǎn)工藝越先進(jìn)。在同樣的材料中可以制造更多的電子元件,連接線也越細(xì),精細(xì)度就越高,CPU的功耗也就越小。目前半導(dǎo)體芯片主流制程工藝為14nm和10nm,而由于各家的制程工藝定義稍有差異,因此即使是相同的XXnm也不一定完全相同。


image.png


  今年下半年,手機(jī)芯片將進(jìn)入到7nm時代,而目前已經(jīng)投產(chǎn)7nm的僅有臺積電一家,三星半導(dǎo)體的7nm目前還沒有確切消息傳出,英特爾的10nm還在難產(chǎn)。蘋果Apple A12/華為麒麟980以及高通驍龍855都是由臺積電代工,因此從工藝制程來說這三款芯片沒有差異,更多的差異在于IC設(shè)計。

  總結(jié)下來7nm制程工藝有三點優(yōu)勢

  第一:芯片功耗更低

  芯片的制程工藝數(shù)字越小,比如7nm比10nm更小,芯片的功耗越低,制程工藝是指IC內(nèi)電路與電路之間的距離,間距越小耗能越低,但更先進(jìn)的制成工藝需要更久的研制時間和更高的研制技術(shù)更先進(jìn)的制造工藝會使處理器的核心面積進(jìn)一步減小,也就是說在相同面積的晶圓上可以制造出更多的CPU產(chǎn)品,更先進(jìn)的制造工藝還會減少處理器的功耗,從而減少其發(fā)熱量,解決處理器性能提升的障礙。


image.png


  第二:芯片面積更小

  微電子技術(shù)的發(fā)展與進(jìn)步,主要是靠工藝技術(shù)的不斷改進(jìn),使得器件的特征尺寸不斷縮小,從而集成度不斷提高。。提高處理器的制造工藝具有重大的意義,因為更先進(jìn)的制造工藝會在CPU內(nèi)部集成更多的晶體管。手機(jī)內(nèi)部空間寸土寸金,更小的芯片有利于騰出寶貴的空間來容納更大的電池,以提高設(shè)備的續(xù)航能力。


image.png


  第三:芯片性能更強(qiáng)

  在這里有個概念叫“TDP”,TDP的英文全稱是“Thermal Design Power”,中文直譯是“散熱設(shè)計功耗”,目前手機(jī)芯片的散熱設(shè)計功耗一般都不超過5W,雖然制程工藝不直接決定手機(jī)芯片的性能,但得益于7nm更低的功耗,在相同TDP條件下7nm要比10nm的性能更強(qiáng),也就是說在IC設(shè)計階段可以增加更多的晶體管,實現(xiàn)更高的性能。


image.png


  更先進(jìn)的制程能夠提供更低的功耗、更小的面積以及更強(qiáng)的性能,現(xiàn)在的數(shù)碼產(chǎn)品對于續(xù)航有著較為苛刻的要求,而制程工藝的進(jìn)步是驅(qū)動芯片升級的重要動力。而在7nm之后,還會有5nm、3nm甚至更加先進(jìn)的制程工藝出現(xiàn),制程工藝的進(jìn)步可以使數(shù)碼產(chǎn)品的續(xù)航提升顯著,同時性能也更強(qiáng)。



關(guān)鍵詞: 芯片 7nm

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉