5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù)：產(chǎn)能大漲600%

提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害，今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機(jī)HMI eScan1000，適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。

隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來越復(fù)雜，這也會(huì)導(dǎo)致晶圓中的錯(cuò)誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統(tǒng)，內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng)，能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束，然后根據(jù)反射回來的電子束成像來分析晶圓質(zhì)量，并有高速運(yùn)行的平臺(tái)以控制測試的晶圓數(shù)量，還要有計(jì)算系統(tǒng)處理電子束的數(shù)據(jù)。

簡單來說，ASML研發(fā)的這個(gè)HMI eScan1000機(jī)器就是一臺(tái)驗(yàn)證先進(jìn)工藝生產(chǎn)出來的晶圓質(zhì)量的系統(tǒng)，工藝越先進(jìn)，檢測系統(tǒng)就越重要，它的檢測精度、吞吐量決定了生產(chǎn)的效率。

ASML的HMI eScan1000的突破之處在于能夠同時(shí)產(chǎn)生、控制九道電子束，所以產(chǎn)能提升了600%，可以大大減少晶圓質(zhì)量分析所用的時(shí)間。

目前HMI eScan1000可以用于5nm及以下先進(jìn)工藝的晶圓測試，已經(jīng)交付給客戶進(jìn)行測試驗(yàn)證，未來ASML還會(huì)推出光束更多的測試設(shè)備以滿足客戶對(duì)先進(jìn)工藝的要求。