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功耗降低30%:臺(tái)積電3nm工藝已量產(chǎn)

作者: 淼淼小鬼 時(shí)間:2022-07-22 來源:ZOL 收藏

芯研所7月22日消息,作為的第一大客戶,蘋果最近幾年的iPhone新品都能首發(fā)新一代工藝,不過今年的iPhone 14是趕不上工藝了。

本文引用地址:http://www.butianyuan.cn/article/202207/436532.htm

功耗降低30%:臺(tái)積電3nm工藝已量產(chǎn)


iPhone 14系列無(wú)緣主要是臺(tái)積電的工藝今年進(jìn)度有些晚,上半年沒能量產(chǎn),拖到下半年,跟不上蘋果的量產(chǎn)進(jìn)度,不過最新消息稱3nm工藝已經(jīng)開始投片量產(chǎn),而且在新竹、南科兩個(gè)園區(qū)的工廠同時(shí)量產(chǎn)最先進(jìn)的工藝。不過臺(tái)積電官方?jīng)]有確認(rèn)這一消息,臺(tái)積電表示不評(píng)價(jià)市場(chǎng)傳聞。

根據(jù)臺(tái)積電之前的消息,3nm節(jié)點(diǎn)上至少有5代衍生版工藝,分別是N3、N3P、N3S、N3X及N3E,其中N3工藝是最早量產(chǎn)的。對(duì)比N5工藝,N3功耗可降低約25-30%,性能可提升10-15%,晶體管密度提升約70%。




關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 制程工藝 3nm

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