新聞中心

EEPW首頁(yè) > 網(wǎng)絡(luò)與存儲(chǔ) > 市場(chǎng)分析 > DRAM掀起新一輪熱潮,封裝技術(shù)發(fā)揮關(guān)鍵作用

DRAM掀起新一輪熱潮,封裝技術(shù)發(fā)揮關(guān)鍵作用

作者: 時(shí)間:2023-12-11 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 收藏

處理器,無(wú)論是 CPU、GPU、FPGA,還是 NPU,要想正常運(yùn)行,都離不開(kāi) RAM,特別是 (動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器),它已經(jīng)成為各種系統(tǒng)(PC,手機(jī),數(shù)據(jù)中心等)中內(nèi)存的代名詞。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202312/453760.htm

根據(jù)應(yīng)用不同,系統(tǒng)對(duì)芯片面積和功耗有不同要求,因此, 被分成標(biāo)準(zhǔn) DDR(雙倍數(shù)據(jù)速率)、LPDDR、GDDR 等,當(dāng)然,主要就是這三類(lèi)。其中,DDR 是相對(duì)于 SDR(單數(shù)據(jù)速率)而言的,將 I/O 時(shí)鐘加倍了,主要為 PC 和數(shù)據(jù)中心的 CPU 服務(wù),目前已經(jīng)發(fā)展到 DDR5;LPDDR 是低功耗的 DDR,主要用于手機(jī)等便攜式設(shè)備;GDDR 則是 GPU 專(zhuān)用 。

在高性能計(jì)算(HPC)和 AI 發(fā)展如火如荼的當(dāng)下,一個(gè)很大的瓶頸就是處理器與 DRAM 之間的通信速度,越來(lái)越跟不上應(yīng)用需求的前進(jìn)腳步。對(duì)此,人們想出了多種方法,以提升通信帶寬,如不斷提升 DRAM 本身的接口性能,以及存算一體等,但從實(shí)際應(yīng)用情況來(lái)看,只提升接口性能是不夠用的,而存算一體短期內(nèi)還無(wú)法實(shí)現(xiàn)。在這種情況下,推出更好的 DRAM 與 CPU、GPU 等處理器的結(jié)合形式,也就是不斷讓進(jìn)步,成為了業(yè)界提升通信帶寬的普遍共識(shí)。

DRAM 的常用

DRAM 幾經(jīng)變遷,從雙列直插封裝 DIP、J 型引腳小外形封裝 SOJ、薄型小尺寸封裝 TSOP、底部引線塑料封裝 BLP、焊球陣列封裝 BGA(F-BGA、W-BGA),發(fā)展到芯片級(jí)封裝 CSP、堆疊封裝等高性能封裝方式。在成本允許的條件下,可盡量采用先進(jìn)的封裝技術(shù),以提升 DRAM 性能。

目前,堆疊封裝技術(shù),特別是系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP),可以在有限的空間內(nèi)成倍提高存儲(chǔ)器容量,或?qū)崿F(xiàn)電子設(shè)計(jì)功能,解決空間、互連受限等問(wèn)題。此外,由于封裝設(shè)計(jì)的變化,引線鍵合封裝因具有靈活性、可靠性和低成本的優(yōu)點(diǎn)而備受青睞。倒裝(Flip Chip,F(xiàn)C)芯片于 2016 年開(kāi)始進(jìn)軍 DRAM 封裝,由于高帶寬需求的推動(dòng),倒裝芯片在 PC、服務(wù)器中的采用率不斷增加。目前,系統(tǒng)對(duì)高帶寬、高性能、低延遲的綜合要求很高,硅通孔(TSV)很適合高帶寬內(nèi)存封裝需求。

在便攜式電子設(shè)備應(yīng)用中(如手機(jī)),DRAM 的封裝尺寸會(huì)直接影響到產(chǎn)品的體積大小,所以,封裝技術(shù)要向輕、薄、短、小方向發(fā)展。

不同應(yīng)用的產(chǎn)品尺寸、性能、形態(tài)等存在差異,采用的封裝形式也不同。其中,移動(dòng)終端 DRAM(LPDDR)多以 WB-FBGA 為主,PC 和服務(wù)器用的標(biāo)準(zhǔn)型 DDR 則以 FBGA、FC 為主。

以 DDR 為例,F(xiàn)BGA 線長(zhǎng)較短,信號(hào)傳輸好且成本較低,曾經(jīng)被三星、SK 海力士和美光等主流廠商廣泛采用,隨著內(nèi)存條產(chǎn)品發(fā)展到 DDR4,三星、SK 海力士的很多產(chǎn)品開(kāi)始轉(zhuǎn)向 FC 封裝,其傳輸路徑更短,電性能表現(xiàn)更好。盡管 FC 的成本比 FBGA 高,但得益于規(guī)模效應(yīng),兩者成本基本持平?,F(xiàn)在的高端產(chǎn)品,如 DDR5,性能要求很高,目前多采用 TSV 堆疊封裝。TSV 采用縱向穿越結(jié)構(gòu),通過(guò)導(dǎo)線將不同層的芯片相互連接起來(lái),這種連接方式不僅提供了更高的信號(hào)帶寬,還減少了電阻和電感,提高了芯片的整體性能。通過(guò) TSV 把多芯片的 I/O 連接,同時(shí)實(shí)現(xiàn)多芯片堆疊來(lái)擴(kuò)容并實(shí)現(xiàn)更小的信號(hào)損失。

LPDDR 與處理器緊密集成在一起,或者焊接在主板上,靠近 CPU,或者直接在處理器(在這種情況下,通常是 SoC)的頂部以 package-on-package 封裝的形式出現(xiàn),這種形式越來(lái)越常見(jiàn)。緊密的集成可減少將內(nèi)存連接到處理器的長(zhǎng)導(dǎo)線中的電阻,從而降低功耗。

總體來(lái)看,引線鍵合是主要的封裝方法,廣泛應(yīng)用于移動(dòng)存儲(chǔ)器,其次是倒裝芯片封裝,其在 DRAM 市場(chǎng)不斷拓展。

帶動(dòng)封裝技術(shù)再創(chuàng)新

目前,AI 服務(wù)器對(duì) (高帶寬內(nèi)存)的需求量越來(lái)越大,因?yàn)? 大大縮短了走線距離,從而大幅提升了 AI 處理器運(yùn)算速度。

HBM 經(jīng)歷了幾代產(chǎn)品,包括 HBM、HBM2、HBM2e 和 HMB3,最新的 HBM3e 剛出樣品。HBM 是一種應(yīng)用于 CPU 和 GPU 的新型內(nèi)存,它將多個(gè) DDR 芯片堆疊在一起后和 GPU 封裝在一起,主要通過(guò) TSV 技術(shù)進(jìn)行芯片堆疊,通過(guò)貫通所有芯片層的柱狀通道傳輸信號(hào)、指令和電流,以增加吞吐量并克服單一封裝內(nèi)帶寬的限制,實(shí)現(xiàn)了大容量、高帶寬的 DDR 組合陣列。HBM3 帶寬可以達(dá)到 819GB/s。

目前,全球三大存儲(chǔ)芯片廠商都在開(kāi)發(fā) HBM 技術(shù)和產(chǎn)品,其中,三星和 SK 海力士已經(jīng)量產(chǎn)了 HBM3,主要用于英偉達(dá)的 H100、H800 和 AMD 的 MI300 系列 GPU,三星預(yù)計(jì)于 2024 年第一季度送樣 HBM3e,下半年量產(chǎn),SK 海力士則于近期給英偉達(dá)送去了 HBM3e 樣品,其最新的 GPU 芯片 H200 已經(jīng)標(biāo)配了 HBM3e。美光(Micron)則相對(duì)落后,該公司選擇跳過(guò) HBM3,直接開(kāi)發(fā) HBM3e。

傳統(tǒng)封裝技術(shù)已經(jīng)難以滿足 HBM 的需求,而臺(tái)積電的 CoWoS(chip-on-wafer-on-substrate)封裝則是較為理想的方案。

CoWoS 是一種集成邏輯和 HBM 芯片的 2.5D 封裝技術(shù),在這種封裝中,處理器和 HBM 在硅中介層上并排鍵合,以形成具有細(xì)間距和器件之間高密度互連布線的晶圓上芯片(CoW)。每個(gè) HBM 都由帶有微凸塊的 DRAM 和一個(gè)帶有 TSV 的邏輯基座組成,然后完成在基板上具有較大凸塊的 TSV 中介層的組裝。

多年來(lái),CoWoS 一直在追求不斷增加硅中介層尺寸,以支持封裝中的處理器和 HBM 堆棧。目前,CoW 是倒裝芯片鍵合最常用的組裝方法,它采用了一種稱為混合鍵合方法的無(wú)凹凸技術(shù)。

CoWoS 產(chǎn)能不足是近期 AI 芯片出貨量的主要瓶頸,以臺(tái)積電為代表的廠商正在擴(kuò)充相關(guān)產(chǎn)能,以滿足市場(chǎng)需求。

先進(jìn)封裝大戰(zhàn)

臺(tái)積電在 2011 年就開(kāi)始布局 CoWoS 了,并陸續(xù)獲得多個(gè)客戶訂單,但由于報(bào)價(jià)昂貴,加上相應(yīng)的需求有限,因此,前些年的產(chǎn)能沒(méi)有明顯增加,但是,進(jìn)入 2023 年以來(lái),特別是 AIGC 需求爆發(fā),臺(tái)積電開(kāi)始大幅擴(kuò)建 CoWoS 產(chǎn)線。

目前,除了臺(tái)積電,英特爾、三星等芯片制造大廠也在加大先進(jìn)封裝投入力度。

英特爾方面,預(yù)計(jì)該公司最新先進(jìn)封裝服務(wù)將在 2026 年投入量產(chǎn)。不同于其它競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手主要采用硅制程的中間層技術(shù),英特爾選擇用玻璃基板,其成本會(huì)相對(duì)較高,業(yè)界采用該方案的廠商較少。

對(duì)于趕超臺(tái)積電 HBM 先進(jìn)封裝技術(shù)最為積極的是三星。

2021 年,三星推出了 2.5D 封裝技術(shù) H-Cube。今年 9 月,據(jù) Etnews 報(bào)道,為了追上臺(tái)積電 AI 芯片的先進(jìn)封裝,三星將推出名為 FO-PLP 的 2.5D 封裝技術(shù)。據(jù)悉,F(xiàn)O-PLP 可將處理器和 HBM 整合到硅中介層。

據(jù)悉,F(xiàn)O-PLP 的基板是方形,而臺(tái)積電的 CoWoS 是圓形基板,F(xiàn)O-PLP 不會(huì)有邊緣基板損耗問(wèn)題,但由于要將芯片由晶圓移植到方形基板,其作業(yè)較為復(fù)雜。

近期,三星還推出了最新的封裝技術(shù) SAINT,包括 SAINT S(垂直堆疊內(nèi)存和 CPU),SAINT D(用于 CPU、GPU 和內(nèi)存的垂直封裝),SAINT L(用于堆疊應(yīng)用處理器)。

消息人士稱,SAINT S 已經(jīng)通過(guò)了驗(yàn)證測(cè)試,在與客戶進(jìn)行進(jìn)一步測(cè)試后,三星將于 2024 年推出相應(yīng)的商業(yè)服務(wù)。

最近,三星 HBM3 及其封裝服務(wù)通過(guò)了 AMD 的質(zhì)量測(cè)試,后者計(jì)劃將這些芯片和服務(wù)用于其最新的 GPU 芯片 Instinct MI300X。

此前,AMD 曾考慮使用臺(tái)積電的封裝服務(wù),但由于后者的 CoWoS 產(chǎn)能?chē)?yán)重供不應(yīng)求,AMD 不得不改變計(jì)劃。

據(jù)韓國(guó)消息人士透露,三星還在與英偉達(dá)進(jìn)行 HBM3 芯片技術(shù)驗(yàn)證,并提供封裝服務(wù)。一旦工作完成,預(yù)計(jì)三星將負(fù)責(zé)英偉達(dá) H100 與 HBM3 的封裝,據(jù)悉,這兩家公司簽署了一項(xiàng)服務(wù)和供應(yīng)協(xié)議。

今年 6 月,三星成立了多芯片集成聯(lián)盟,目的是與存儲(chǔ)芯片公司、外包半導(dǎo)體封裝和測(cè)試公司(OSAT),以及芯片設(shè)計(jì)公司共同推進(jìn)封裝技術(shù)。

在先進(jìn)封裝技術(shù)研發(fā)方面,沒(méi)有芯片工廠的 AMD 也是不遺余力,特別是在 HBM 和 GPU、CPU 封裝方面。

在 ISSCC 2023 國(guó)際固態(tài)電路大會(huì)上,AMD 提出了多種新的封裝設(shè)想,其中之一是在服務(wù)器 CPU 模塊內(nèi)部,直接堆疊內(nèi)存,而且是多層堆疊。一種方式是將 CPU 模塊和內(nèi)存模塊并排封裝在硅中介層上,另一種方式是在計(jì)算模塊上方直接堆疊內(nèi)存,有點(diǎn)像手機(jī) SoC。

AMD 表示,這種設(shè)計(jì)可以讓計(jì)算核心以更短的距離、更高的帶寬、更低的延遲訪問(wèn)內(nèi)存,還能降低功耗。

如果堆疊內(nèi)存容量足夠大,主板上的 DIMM 插槽都可以省了。

AMD 甚至考慮在 Instinct 系列 GPU 已經(jīng)整合封裝 HBM 的基礎(chǔ)上,繼續(xù)堆疊 DRAM,但只有一層,容量不會(huì)太大。這樣做的最大好處是一些關(guān)鍵算法可以直接在此 DRAM 內(nèi)執(zhí)行,不必在 CPU 和獨(dú)立內(nèi)存之間往復(fù)通信,從而提升性能、降低功耗。

AMD 還設(shè)想在 2D/2.5D/3D 封裝內(nèi)部,集成更多模塊,包括內(nèi)存、統(tǒng)一封裝光網(wǎng)絡(luò)通道物理層、特定域加速器等,并引入高速標(biāo)準(zhǔn)化的芯片間接口通道(UCIe)。

結(jié)語(yǔ)

3D 封裝是未來(lái)發(fā)展方向,這種多層結(jié)構(gòu)有很多優(yōu)點(diǎn):一、它通過(guò)增加芯片層次和連接方式,實(shí)現(xiàn)了更高的芯片集成度和功能密度;二、多層堆疊結(jié)構(gòu)減小了整個(gè)芯片的體積,使得電子設(shè)備變得更加輕薄便攜;三、多層堆疊提供了更高的性能和效率,可進(jìn)一步優(yōu)化電子設(shè)備的處理速度和能耗。

HBM 所涉及的封裝已經(jīng)是當(dāng)下最先進(jìn)的內(nèi)存封裝技術(shù)了,不過(guò),技術(shù)進(jìn)步的腳步一直沒(méi)有停歇,在擴(kuò)充現(xiàn)有先進(jìn)技術(shù)產(chǎn)線的基礎(chǔ)上,各大廠商還在研發(fā)更具前瞻性的技術(shù)。

據(jù)悉,三星電子先進(jìn)封裝(AVP)事業(yè)組正在研發(fā)新一代內(nèi)存技術(shù)「Cache DRAM」,目標(biāo)是在 2025 年開(kāi)始量產(chǎn)。與 HBM 相比,Cache DRAM 功耗效率可改善 60%,延遲將減少 50%。

封裝技術(shù)方面,Cache DRAM 與 HBM 也有很大區(qū)別,HBM 是水平連接至 GPU,Cache DRAM 則是與 GPU 垂直連接。

當(dāng)然,不止三星,英特爾、臺(tái)積電、日月光等大廠都在開(kāi)發(fā)新的內(nèi)存封裝技術(shù),但具體情況還不得而知。

在研發(fā)先進(jìn)封裝技術(shù)的道路上,需要解決的難題也很多,例如,隨著堆疊層數(shù)的增加,熱量的管理問(wèn)題越來(lái)越凸出,因?yàn)樵诰o密堆疊的芯片中,熱量散發(fā)變得更加困難。對(duì)此,科學(xué)家們正在不斷尋找解決方案,以保持芯片高性能工作狀態(tài)的穩(wěn)定性和可靠性。



關(guān)鍵詞: DRAM 封裝技術(shù) HBM

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專(zhuān)區(qū)

關(guān)閉