老美失算了!想引領(lǐng)芯片技術(shù)卻讓ASML獨大
美國為了擺脫對他國的芯片依賴,力促芯片制造業(yè)回流本土,美媒撰文分析,美國曾有機會引領(lǐng)芯片制造技術(shù)卻錯過了機會,不只讓ASML獨大,也讓亞洲制造商臺積電、三星等主導(dǎo)了生產(chǎn)。
本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202404/457642.htm根據(jù)MarketWatch報導(dǎo),ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)占有關(guān)鍵地位,是目前全球唯一有能力生產(chǎn)微影設(shè)備極紫外光(EUV)曝光機的企業(yè)。Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula指出,臺積電、英特爾和三星之間競爭激烈,身為設(shè)備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。
至于美國為何會失去對EUV技術(shù)這項關(guān)鍵技術(shù)的控制權(quán)?美國財經(jīng)媒體報導(dǎo),主因是英特爾的的戰(zhàn)略錯誤,時任執(zhí)行長布萊恩·科再奇(Brian Krzanich)不相信該技術(shù)能夠以經(jīng)濟的規(guī)模發(fā)揮作用,因此放棄了ASML第1代EUV機器的生產(chǎn)。
Brian Krzanich對于英特爾在尖端芯片制造制程方面領(lǐng)先于同行充滿信心,但事實證明這是1個錯誤決定,臺積電使用EUV制程,在2018年左右首次在技術(shù)上超越英特爾。
英特爾執(zhí)行長的基辛格(Pat Gelsinger)則希望他不會重蹈前任的覆轍,英特爾已收到ASML第一臺最新型高數(shù)值孔徑EUV光刻機,在接下來幾年,英特爾打算將此系統(tǒng)部署到18A后的節(jié)點(1.8納米制程)。
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