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良品率還不到20%!三星2nm工藝仍舊不堪大用

作者: 時(shí)間:2024-09-13 來(lái)源:快科技 收藏

在不靠譜這臺(tái)路上,似乎一直很靠譜……

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202409/462935.htm

根據(jù)集邦咨詢(xún)的最新報(bào)告,工藝仍然面臨極大困難,目前的良品率只有可憐的10-20%,完全無(wú)法投入量產(chǎn)。

受此壓力,計(jì)劃在海外更大規(guī)模地裁員,從美國(guó)得克薩斯州的泰勒工廠(chǎng)撤回更多人員。

事實(shí)上,據(jù)稱(chēng)三星的整體良品率都不到50%,尤其是在3nm及更先進(jìn)工藝上非常差勁。

要知道,臺(tái)積電的整體良率約有60-70%。

三星官方的計(jì)劃是,2025年量產(chǎn),包括SF2、SF2P、SF2X、SF2A、SF2Z等多個(gè)不同版本,2027年繼續(xù)量產(chǎn)1.4nm。

據(jù)悉,三星工藝進(jìn)一步完善了多橋-通道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MBCFET)架構(gòu),具有獨(dú)特的外延和集成工藝,與基于FinFET的工藝技術(shù)相比,晶體管性能提升最多46%,可變性降低26%,漏電率降低約50%。

此前還有說(shuō)法稱(chēng),三星3nm工藝良率不到20%,三星對(duì)此回應(yīng)稱(chēng),其在2022年全球首次量產(chǎn)3nm GAA工藝之后,第二代3nm工藝性能穩(wěn)定,且產(chǎn)量已步入正軌。

目前,臺(tái)積電占據(jù)全球晶圓代工市場(chǎng)62.3%的份額,遙遙領(lǐng)先,三星雖然名義上是第二,但份額僅為11.5%,就連我國(guó)中芯國(guó)際都沖到了第三,已占據(jù)5.7%。

良品率還不到20%!三星2nm工藝仍舊不堪大用



關(guān)鍵詞: 三星 晶圓廠(chǎng) 2nm

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