國產(chǎn)光刻膠通過量產(chǎn)驗證

據(jù)中國光谷官微消息，近日，武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過半導體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)配方全自主設(shè)計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導體光刻制造新局面。

據(jù)悉，該產(chǎn)品對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)稱之為“妖膠”的國外同系列產(chǎn)品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好，通過驗證發(fā)現(xiàn)T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

據(jù)了解，太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創(chuàng)立，立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研發(fā)。太紫微公司致力于半導體專用高端電子化學品材料的開發(fā)，并以新技術(shù)路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術(shù)，同時為材料的分析與驗證提供最全面的手段。