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從4004到core i7——處理器的進(jìn)化史-CPU構(gòu)成零件-1

作者: 時(shí)間:2014-02-18 來源:摘自《果殼小組》網(wǎng) 收藏

  最后來一張符號圖

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/221712.htm

  注意,FET有P溝道和N溝道兩種類型。

  好了,我說過我不會(huì)過于深入器件,所以我簡短的陳述一下FET工作的原理,我們就以N溝道型管為例,就是上面第二張圖片中的管子。

  MOS管是4端元件,分別是源、漏、門(柵)、底襯。

  其中,門極通過一層二氧化和其余的部分絕緣,它僅能通過自身積累的電荷產(chǎn)生的電場施加影響而不能產(chǎn)生長久的電流。注意這個(gè)特性決定了MOS管的低功耗性能非常優(yōu)異。

  漏極和柵極平常通過底襯被分割開來。注意這樣形成了N-P-N結(jié)構(gòu)。根據(jù)上面的知識(shí),正常情況下無論怎樣的漏-源電壓都無法使電流通過:兩個(gè)PN結(jié)中總有一個(gè)是反向偏置的。

  但是當(dāng)柵極上有正電荷時(shí)神奇的事情就發(fā)生了:它產(chǎn)生的電場將源極(N+表示高摻雜的N型半導(dǎo)體,富含自由電子)的一些電子掃入底襯,并且牢牢控制在正對著它的漏-源之間的上表面(溝道)。上表面薄薄一層之內(nèi)積聚了如此多的自由電子,以至于它再也不是P型半導(dǎo)體了——它成了N型。(發(fā)生了半導(dǎo)體強(qiáng)反型)萬歲!我們終于將漏——源聯(lián)系了起來,電流可以在其中通過了。注意到,這種聯(lián)系是我們可以控制的。也就是說,我們有了一個(gè)電壓控制的開關(guān)。這也就意味著,我們可以開始構(gòu)建的第一步了。

  為了避免過度簡化事物,我在此還是不得不提一下MOSFET的詳細(xì)性質(zhì)。又由于篇幅限制,我不得不將大段內(nèi)容略去。建議想要真的理解我試圖表達(dá)的后續(xù)內(nèi)容的外行人勤奮的自行wiki。

  1)MOSFET有3個(gè)工作區(qū):亞閾值、阻性區(qū)(線性區(qū))、飽和區(qū)(放大區(qū),恒流源區(qū))

  2)MOSFET有一些2階效應(yīng)。在深亞微米條件下,MOSFET變得如此的小,以至于這些原本可以忽略不計(jì)只存在于文獻(xiàn)中的特性變得如此的顯著以至于大量的技術(shù)被發(fā)明來控制MOSFET管對于理想電壓開關(guān)模型的偏離。注意!!!這里有一個(gè)重要的設(shè)計(jì)思想:控制你的器件,不要讓它變得太復(fù)雜。如果它變得太復(fù)雜,就想方設(shè)法讓它變得簡單,或者干脆換一個(gè)器件。

  這些2階效應(yīng)中有一些你肯定聽說過:

  溝道長度調(diào)制效應(yīng)

  閾值偏移

  亞閾值導(dǎo)通

  速度飽和

  熱載流子效應(yīng)

  閂鎖

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