新聞中心

EEPW首頁 > 模擬技術(shù) > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 臺(tái)積電為何想要在2018年量產(chǎn)7nm工藝?

臺(tái)積電為何想要在2018年量產(chǎn)7nm工藝?

作者: 時(shí)間:2015-11-19 來源:雷鋒網(wǎng) 收藏

  在14/16nm工藝上落后于三星著實(shí)讓吃了悶虧,雖然三星的14nm工藝并沒有的16nmFF+工藝強(qiáng)悍,但半年的時(shí)間領(lǐng)先已經(jīng)足夠讓三星去游說很多客戶了。好在蘋果的A9芯片沒有給丟臉,從各種續(xù)航測試來看的確將三星甩在身后。過去半年一直被壓著打的臺(tái)積電總算是翻身吐氣了,為了不重蹈覆轍,臺(tái)積電似乎要加速推送工藝量產(chǎn)。

本文引用地址:http://www.butianyuan.cn/article/283037.htm

  10nm還沒出來就要推動(dòng)了?實(shí)際上臺(tái)積電準(zhǔn)備在2017年量產(chǎn)10nm工藝,然后在2018年下半年量產(chǎn)。目前的進(jìn)度來看,臺(tái)積電已經(jīng)完成了10nm工藝的研發(fā),并且準(zhǔn)備在2016年的春季進(jìn)行試產(chǎn),這樣來看在2017年還是很有可能將10nm推向市場的。

  以工藝節(jié)點(diǎn)的進(jìn)度來看,實(shí)際上10nm工藝很像是20nm,因?yàn)樘嵘^小都被認(rèn)為是過渡性質(zhì)的工藝,如此一來臺(tái)積電想盡早趕上7nm的進(jìn)度也就順理成章了。

 



關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 7nm

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉