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“十一五”我國將建立完善集成電路產(chǎn)業(yè)鏈

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作者: 時(shí)間:2007-03-19 來源: 收藏
  “十五”期間,在18號(hào)文件政策的引導(dǎo)和應(yīng)用市場的帶動(dòng)下,我國集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模迅速擴(kuò)大,技術(shù)水平不斷提高,產(chǎn)業(yè)體系日趨完善,實(shí)現(xiàn)了較快發(fā)展。 

  但我國集成電路產(chǎn)業(yè)仍存在許多問題和矛盾,與信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展要求仍存在相當(dāng)差距?!?a class="contentlabel" href="http://butianyuan.cn/news/listbylabel/label/十一五">十一五”是我國全面建設(shè)小康社會(huì)的重要時(shí)期,也是信息產(chǎn)業(yè)強(qiáng)國戰(zhàn)略的重要起步期,在這種新的形勢下,我們要推動(dòng)集成電路產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)又好又快發(fā)展。 

  優(yōu)先發(fā)展集成電路設(shè)計(jì)業(yè) 

  “十五”期間,國家頒布了《鼓勵(lì)軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策》及《集成電路產(chǎn)業(yè)研究與開發(fā)專項(xiàng)基金管理暫行辦法》等一系列政策措施,為國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展?fàn)I造了良好的環(huán)境,有力地促進(jìn)了集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,我國集成電路設(shè)計(jì)業(yè)得到長足進(jìn)步。 

  “”期間我們?nèi)詫?jiān)持以集成電路設(shè)計(jì)業(yè)為龍頭,繼續(xù)加大支持力度,完善相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策、法規(guī)的制定和落實(shí),加快出臺(tái)《進(jìn)一步促進(jìn)軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)的若干政策》,力爭出臺(tái)軟件與集成電路產(chǎn)業(yè)促進(jìn)條例,為集成電路設(shè)計(jì)業(yè)的發(fā)展提供良好的政策氛圍。 

  “”期間要大力推進(jìn)集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)和整機(jī)應(yīng)用廠商之間的合作,推動(dòng)新技術(shù)的廣泛應(yīng)用,以應(yīng)用促發(fā)  
展。加快建設(shè)企業(yè)為主體、社會(huì)各界參與的集成電路共性技術(shù)研發(fā)和公共服務(wù)平臺(tái),促進(jìn)企業(yè)間聯(lián)合開發(fā)。充分發(fā)揮行業(yè)協(xié)會(huì)的橋梁紐帶作用,鼓勵(lì)企業(yè)成立各類技術(shù)合作機(jī)構(gòu),共同推進(jìn)新技術(shù)研發(fā)和標(biāo)準(zhǔn)的制定。 

  重視專利和標(biāo)準(zhǔn)作用,努力提升專利數(shù)量和質(zhì)量,研發(fā)一批擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的核心關(guān)鍵技術(shù)。將涉及國家經(jīng)濟(jì)和國防安全等重要領(lǐng)域的核心關(guān)鍵技術(shù)開發(fā)納入到國家總體發(fā)展規(guī)劃。加快啟動(dòng)國家科技和產(chǎn)業(yè)化重大專項(xiàng),實(shí)現(xiàn)重點(diǎn)突破。 

  堅(jiān)持市場導(dǎo)向、企業(yè)運(yùn)作、政府引導(dǎo)的原則,集中力量培育有核心競爭力的骨干企業(yè)。積極支持企業(yè)根據(jù)自身發(fā)展的要求,以市場為導(dǎo)向,以資本為紐帶,進(jìn)行跨行業(yè)、跨部門、跨地區(qū)、跨所有制的收購、兼并、重組,形成一批擁有著名品牌和自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)、主業(yè)突出、核心技術(shù)開發(fā)水平較高、市場競爭力強(qiáng)的優(yōu)勢企業(yè)。 

  積極發(fā)展集成電路制造業(yè) 

  我國要想提高集成電路產(chǎn)業(yè)控制力,需要從產(chǎn)業(yè)模式上取得突破,積極發(fā)展集成器件制造模式,從制造入手,進(jìn)而向產(chǎn)業(yè)鏈兩端延伸,形成完整的集成電路制造體系。 

  目前我國集成電路芯片制造業(yè)缺乏成熟的工藝制造技術(shù)?!笆晃濉逼陂g,我們要積極開發(fā)90nm、60nm乃至45nm的高速、低功耗芯片和新型硅基集成電路的制造工藝技術(shù),研究新型的光刻及離子注入技術(shù),縮小技術(shù)差距。鼓勵(lì)12英寸高水平生產(chǎn)線建設(shè);推動(dòng)現(xiàn)有生產(chǎn)線的技術(shù)升級(jí),支持“909”工程升級(jí)改造,增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)控制力。 

  在“十一五”期間,要努力把握未來國內(nèi)外超大規(guī)模集成電路的發(fā)展趨勢,掌握標(biāo)準(zhǔn)工藝IP核的國內(nèi)外市場需求,加大對(duì)處理器、存儲(chǔ)器等關(guān)鍵IP核的開發(fā),為我國超大規(guī)模集成電路IP核系列的開發(fā)探索有效途徑;啟動(dòng)軟/硬件協(xié)同設(shè)計(jì)、IP復(fù)用和與SoC相關(guān)的新工藝、新器件及可*性領(lǐng)域中若干關(guān)鍵技術(shù)的預(yù)研;推動(dòng)國家IP庫的建立,并做好后續(xù)的維護(hù)升級(jí)及專利保護(hù)工作。 

  提升封裝測試能力 

  大力發(fā)展BGA、CSP、MCP、MCM、MEMS等高密度封裝技術(shù)勢在必行,要著力提升我國封裝業(yè)的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化水平。 

  “十一五”期間,要加大研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化投入,提高和完善開發(fā)環(huán)境和手段,加快新型封裝材料的發(fā)展,逐步改變目前基本依賴進(jìn)口的局面。 

  高密度集成電路封裝對(duì)測試技術(shù)提出了更加嚴(yán)格的要求。測試技術(shù)更多地固化在測試儀器內(nèi)?!笆晃濉逼陂g要重點(diǎn)推進(jìn)新型測試設(shè)備的研發(fā),不斷提高測試效率和精度。 

  增強(qiáng)關(guān)鍵設(shè)備和材料開發(fā)能力 

  重點(diǎn)開發(fā)12英寸硅拋光片和8英寸、12英寸硅外延片,鍺硅外延片,SOI材料,寬禁帶化合物半導(dǎo)體材料,新型互連材料等材料;努力掌握6-8英寸集成電路設(shè)備的制造技術(shù);力爭實(shí)現(xiàn)12英寸65納米激光步進(jìn)光刻機(jī)、大角度傾斜大劑量離子注入機(jī)、金屬氧化物化學(xué)氣相沉積設(shè)備,高密度等離子體刻蝕機(jī)、大尺寸擴(kuò)散爐等重大關(guān)鍵裝備的產(chǎn)業(yè)化;加強(qiáng)企業(yè)和研發(fā)中心之間的合作。 

  在6-8英寸用光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)、立式擴(kuò)散爐、快速熱處理設(shè)備,氧化擴(kuò)散設(shè)備、化學(xué)腐蝕設(shè)備、硅片清洗設(shè)備、劃片機(jī)、鍵合機(jī)、集成電路自動(dòng)封裝系統(tǒng)等設(shè)備實(shí)用化的基礎(chǔ)上,提供批量供應(yīng)。對(duì)用量較大的光刻膠、清洗、刻蝕試劑化學(xué)拋光液等,力爭在“十一五”期間實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。 

  “十一五”期間,建立完善的是產(chǎn)業(yè)持續(xù)健康發(fā)展的核心任務(wù)。全行業(yè)要以芯片設(shè)計(jì)為突破口,并以芯片制造作為重點(diǎn),以關(guān)鍵設(shè)備和材料為基礎(chǔ),積極發(fā)展集成電路封裝業(yè),推進(jìn)各環(huán)節(jié)協(xié)調(diào)發(fā)展,盡快建立起植根于國內(nèi)、具有核心競爭能力的產(chǎn)業(yè)體系。  



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