首頁(yè)　 資訊　 商機(jī) 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會(huì)展　 EETV　 百科 　 問答　 電路圖　 工程師手冊(cè) 　 Datasheet　 100例 　 活動(dòng)中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請(qǐng)
EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 光刻掩膜

Toppan宣布28nm光刻掩膜準(zhǔn)備就緒 通過IBM認(rèn)證

  • 　　Toppan Printing公司在同IBM的合作下，開發(fā)出新的光刻掩膜制造技術(shù)，可用于制造32nm和28nm掩膜。 　　該公司稱，這些掩膜在日本Asaka工廠制成，通過了IBM的認(rèn)證。 　　Toppan從45nm節(jié)點(diǎn)就開始和IBM合作，去年雙方簽署了32nm掩膜技術(shù)的最后階段的合作協(xié)議，以及22nm掩膜的合作開發(fā)協(xié)議。
  • 關(guān)鍵字： Toppan  納米  光刻掩膜  
共1條 1/1 1

光刻掩膜介紹

您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條光刻掩膜!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對(duì)光刻掩膜的理解，并與今后在此搜索光刻掩膜的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會(huì)員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473