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國產廠商引入首臺光刻機設備！

• 據寧波前灣新區(qū)管理委員會7月15日消息，近日寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節(jié)點，引入首臺電子束掩模版光刻機。據悉，該設備是光掩模版40nm技術節(jié)點量產及28nm技術節(jié)點研發(fā)的重點設備。光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關鍵部件，類似于相機“底片”，光線經過掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導體光掩模版產品主要仍依賴于進口，國產化率極低。據了解，冠石半導體主要從事45nm~28nm半導體光掩模版的規(guī)?；a。當前，冠石半導體一期潔凈車間設計產能為月產5000片180nm~2
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