半導(dǎo)體內(nèi)存 文章 進(jìn)入半導(dǎo)體內(nèi)存技術(shù)社區(qū)

大日本印刷與Molecular共同開發(fā)低成本納米壓印技術(shù)

• 　　大日本印刷與美國Molecular Imprints就在推進(jìn)22nm級以后納米壓印技術(shù)實(shí)用化進(jìn)程中建立戰(zhàn)略性合作關(guān)系達(dá)成了一致。 　　納米壓印技術(shù)與ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技術(shù)相比，可削減設(shè)備成本。但因其是用模板壓模后轉(zhuǎn)印電路圖形，所以量產(chǎn)時(shí)需要定期更換模板。因此，該公司希望成本能比模板進(jìn)一步降低。 　　為了解決該課題，此次的合作中兩公司將共同開發(fā)在硅晶圓上轉(zhuǎn)印圖形用納米壓印模板復(fù)制技術(shù)。兩公司稱，將應(yīng)用現(xiàn)有的光掩模制造技術(shù)，確立可高效復(fù)制及制造模板的技術(shù)。 　　此前，大日本印刷在納米壓
• 關(guān)鍵字： 硅晶圓  22納米  半導(dǎo)體內(nèi)存