微影系統(tǒng) 文章 進(jìn)入微影系統(tǒng)技術(shù)社區(qū)

ASML接獲設(shè)備大單　EUV微影商用進(jìn)展邁大步

• 　　微影設(shè)備制造商ASML近期宣布，接獲美國一家主要客戶十五部EUV機(jī)臺訂單，并將于今年底開始陸續(xù)出貨;同時間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 　　極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布，該公司與美國一家主要客戶已簽屬協(xié)議書，將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統(tǒng)機(jī)臺，以支援不斷增加的制程開發(fā)活動和未來世代制程的試量產(chǎn)。 　　雙方交易
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