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晶背供電技術(shù)的DTCO設(shè)計(jì)方案

  • 一些芯片大廠近期宣布在其邏輯芯片的開發(fā)藍(lán)圖中導(dǎo)入晶背供電網(wǎng)絡(luò)(BSPDN)。比利時(shí)微電子研究中心(imec)于本文攜手硅智財(cái)公司Arm,介紹一種展示特定晶背供電網(wǎng)絡(luò)設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)技術(shù)協(xié)同優(yōu)化(DTCO)方案,其中采用了奈米硅穿孔及埋入式電源軌來進(jìn)行晶背布線。他們展示如何在高效能運(yùn)算應(yīng)用充分發(fā)揮該晶背供電網(wǎng)絡(luò)的潛力,并介紹在標(biāo)準(zhǔn)單元進(jìn)行晶背連接的其它設(shè)計(jì)選擇,探察晶背直接供電方案所能發(fā)揮的最大微縮潛能。長久以來,訊號(hào)處理與供電網(wǎng)絡(luò)都在硅晶圓正面進(jìn)行,晶背供電技術(shù)打破了這種傳統(tǒng),把整個(gè)配電網(wǎng)絡(luò)都移到晶圓背面。硅穿
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imec首度展示晶背供電邏輯IC布線方案 推動(dòng)2D/3D IC升級(jí)

  • 比利時(shí)微電子研究中心(imec)于本周舉行的2022年IEEE國際超大規(guī)模集成電路技術(shù)研討會(huì)(VLSI Symposium),首度展示從晶背供電的邏輯IC布線方案,利用奈米硅穿孔(nTSV)結(jié)構(gòu),將晶圓正面的組件連接到埋入式電源軌(buried power rail)上。微縮化的鰭式場效晶體管(FinFET)透過這些埋入式電源軌(BPR)實(shí)現(xiàn)互連,性能不受晶背制程影響。 FinFET微縮組件透過奈米硅穿孔(nTSV)與埋入式電源軌(BPR)連接至晶圓背面,與晶圓正面連接則利用埋入式電源軌、通孔對(duì)
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晶背供電介紹

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