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條狀過孔成大勢所趨

  • 對于28納米及以下節(jié)點，各種新的設(shè)計要求使工程師不得不調(diào)整傳統(tǒng)的數(shù)字電路板圖設(shè)計和驗證流程。尤其值得一提的是，過孔的使用受到了很大的影響。新的過孔類型已推出，雙重成像（double patterning）、FinFETS 和其它新的設(shè)計技巧的加入不僅使過孔的使用顯著增多
  • 關(guān)鍵字： 條狀過孔  雙重成像  FinFETS  矩形過孔  布局布線  

傳統(tǒng)過孔數(shù)顯著增加 條狀過孔成大勢所趨

  • 摘要：對于28納米及以下節(jié)點，選擇和放置多種過孔類型的復(fù)雜要求對LEF/技術(shù)文件的繞線構(gòu)成了挑戰(zhàn)，導(dǎo)致設(shè)計規(guī)則檢 ...
  • 關(guān)鍵字： 過孔數(shù)  條狀過孔  
共2條 1/1 1

條狀過孔介紹

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