等離子體強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 文章 進(jìn)入等離子體強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)社區(qū)

應(yīng)用材料公司推出等離子體強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

• 　　近日，應(yīng)用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等離子體強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積) 系統(tǒng)，它能實(shí)現(xiàn)在45納米及更小技術(shù)節(jié)點(diǎn)的器件上生產(chǎn)速度更快的晶體管所需要達(dá)到的應(yīng)力水平，是應(yīng)力工程技術(shù)(Strained engineering technology) 的一個(gè)巨大進(jìn)步。該系統(tǒng)結(jié)合應(yīng)用材料的Nanocure™ UV（紫外線）處理技術(shù)以及改進(jìn)型氮化物沉積反應(yīng)腔，把薄膜張力提高了超過30%，達(dá)到了業(yè)界領(lǐng)先的1.7GPa等級(jí)，并可擴(kuò)展至超過2.
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