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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 薄膜沉積制程

SAFC Hitech開設(shè)臺灣新廠

  • 　　SAFC Hitech今天藉由投資數(shù)億臺幣的臺灣高雄新廠設(shè)施落成，來強調(diào)承諾開發(fā)亞太電子市場。新廠占地270, 000 平方英尺，大幅增加了該廠量產(chǎn)的高亮度LED (HBLED) 所使用的高品質(zhì)三甲基鎵 (TMG) 、三乙基鎵 (TEG) 和三甲基銦 (TMI) 的產(chǎn)能。該廠也將繼續(xù)為硅半導(dǎo)體市場制造原子層沉積 (ALD) 和化學(xué)氣相沉積 (CVD) 的前驅(qū)體，并提供亞太地區(qū)分裝及技術(shù)的服務(wù)和支援。 　　作為微電子和光電市場薄膜沉積制程所使用的超高純度金屬有機物和硅前驅(qū)體的供應(yīng)商，SAFC Hite
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薄膜沉積制程介紹

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