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采用創(chuàng)新思維，Cadence新工具讓45nm IC量產(chǎn)提速！

• 　　45nm節(jié)點被稱為IC設計的分水嶺，因為在這一節(jié)點，不僅半導體材料特性、光刻技術已經(jīng)接近極限，而且EDA工具也要面臨更高層次抽象、創(chuàng)新平臺、DFM、多電源域等諸多新挑戰(zhàn)，針對這一節(jié)點上的EDA工具開發(fā)需要更多創(chuàng)新的思維和策略。因為挑戰(zhàn)很多，所以業(yè)界人士對45nm的芯片設計和制造未來憂心忡忡。不過，欣喜的是，在9月11日硅谷的CDNLive!用戶會議上，Cadence向領先的半導體設計者和經(jīng)理們展示了自己的45nm設計流程。其對應的產(chǎn)品Cadence Encounter數(shù)字設計平臺因采用了創(chuàng)新的思維和策
• 關鍵字： 創(chuàng)新思維  Cadence  45nm  IC量產(chǎn)  MCU和嵌入式微處理器