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意法半導(dǎo)體推出采用強(qiáng)化版STripFET F8技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)閾壓40V MOSFET
- 意法半導(dǎo)體推出了標(biāo)準(zhǔn)閾值電壓 (VGS(th))的40V STripFET F8 MOSFET晶體管,新系列產(chǎn)品兼?zhèn)鋸?qiáng)化版溝槽柵技術(shù)的優(yōu)勢和出色的抗噪能力,適用于非邏輯電平控制的應(yīng)用場景。工業(yè)級晶體管STL300N4F8和車規(guī)晶體管STL305N4F8AG的額定漏極電流高于300A,最大導(dǎo)通電阻 RDS(on)為1mΩ,可在高功率應(yīng)用中實現(xiàn)出色的能效。動態(tài)性能得到了改進(jìn),65nC(典型值)的總柵極電荷和低電容(Ciss, Crss)確保在高開關(guān)頻率下電能損耗降至最低。MOSFET體二極管的低正向電壓和快速
- 關(guān)鍵字: 意法半導(dǎo)體 STripFET F8 MOSFET
意法半導(dǎo)體發(fā)布100V工業(yè)級STripFET F8晶體管
- 2023 年 5 月 24 日,中國—— 意法半導(dǎo)體的STL120N10F8 N溝道100V功率MOSFET擁有極低的柵極-漏極電荷(QGD)和導(dǎo)通電阻RDS(on),優(yōu)值系數(shù) (FoM) 比上一代同類產(chǎn)品提高40%。 新推出的MOSFET利用ST的STPOWER STripFET F8先進(jìn)技術(shù),引入氧化物填充溝槽工藝,集極低的導(dǎo)通損耗和低柵極電荷于一身,實現(xiàn)高效的開關(guān)性能。因此,STL120N10F8的最大導(dǎo)通電阻 RDS(on)為 4.6mΩ(在 VGS = 10V 時),高效運(yùn)行頻率達(dá)到6
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意法半導(dǎo)體推出40V STripFET F8 MOSFET晶體管,具備更好的節(jié)能降噪特性
- 意法半導(dǎo)體40V MOSFET晶體管STL320N4LF8 和 STL325N4LF8AG 降低導(dǎo)通電阻和開關(guān)損耗,同時優(yōu)化體寄生二極管特性,降低功率轉(zhuǎn)換、電機(jī)控制和配電電路的能耗和噪聲。新型 40V N 溝道增強(qiáng)型 MOSFET 利用最新一代 STPOWER STripFET F8 氧化物填充溝槽技術(shù)實現(xiàn)卓越的品質(zhì)因數(shù)。在柵源電壓 (VGS)為 10V 時,STL320N4LF8 和 STL325N4LF8AG的最大導(dǎo)通電阻 (Rds(on))分別為 0.8毫歐和和0.75毫歐。新MOSFET的裸片單位
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