?單價(jià)超19億！搶先臺(tái)積電，英特爾訂購(gòu)ASML全球首臺(tái)最新、最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)

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昨日，ASML公布了2021年第4季及全年財(cái)報(bào)，都創(chuàng)歷年新高且優(yōu)于預(yù)期。ASML并宣布去年底及今年都接獲最新一代高數(shù)值孔徑（Hing-NA）極紫外光（EUV），意味ASML在導(dǎo)入 0.55 數(shù)值孔徑High-NA EUV 光刻技術(shù)的道路上又邁出了一步。
High-NA EUV 是ASML最新一代光刻設(shè)備，雖然ASML未透露下單客戶(hù)，但因這項(xiàng)設(shè)備被業(yè)界視為做為未來(lái)投入環(huán)繞閘極（GAA）技術(shù)節(jié)點(diǎn)關(guān)鍵微影設(shè)備，預(yù)料下單廠商應(yīng)是臺(tái)積電或三星，從臺(tái)積電稍早公布資本支出高達(dá)400億到440億美元，且首度揭露用于2nm先進(jìn)制程投資，這也意味臺(tái)積電在2nm有重大突破，并下單采購(gòu)High-NA EUV，投入2nm研發(fā)及試產(chǎn)。
臺(tái)積電供應(yīng)鏈透露，臺(tái)積電內(nèi)部規(guī)劃2nm試產(chǎn)部隊(duì)于今年第4季正式成軍，這也意味臺(tái)積電在先進(jìn)制程，不會(huì)讓三星有任何超車(chē)的機(jī)會(huì)。
不過(guò)據(jù)了解，三星也緊急搶購(gòu)一臺(tái)High-NA EUV，并要ASML直接拉到三星工廠內(nèi)進(jìn)行測(cè)試，創(chuàng)下ASML首創(chuàng)直接先出貨再客戶(hù)廠內(nèi)測(cè)試的首例，顯見(jiàn)二大廠在先進(jìn)制程競(jìng)賽超乎想象的激烈。
ASML 2021年第4季營(yíng)收為50億歐元，營(yíng)收凈額為18億歐元，毛利率54.2%，新增訂單金額71億歐元；2021年全年?duì)I收達(dá)186億歐元，營(yíng)收凈額59億歐元，毛利率52.7%。
ASML也公布2022年第一季財(cái)測(cè)，預(yù)估營(yíng)收凈額約33億到35億歐元，毛利率約49%。ASML計(jì)劃宣布2021年每股普通股5.5歐元的總股息 (年增率達(dá)100%)。
針對(duì)柏林工廠部分建筑物火災(zāi)的影響評(píng)估，ASML表示，根據(jù)目前資料評(píng)估，柏林工廠的火災(zāi)不會(huì)對(duì)2022年的系統(tǒng)出貨產(chǎn)生重大影響，因此，ASML預(yù)估該公司2022年的營(yíng)收凈額仍可比2021年增長(zhǎng)約20%。
ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)溫彼得 (Peter Wennink) 表示，ASML第4季的營(yíng)收達(dá)到50億歐元，符合財(cái)測(cè)；由于強(qiáng)勁的升級(jí)與服務(wù)收入挹注，2021年的毛利率達(dá)到54.2%，優(yōu)于財(cái)測(cè)。
溫彼得進(jìn)一步指出，去年第4季的新增訂單金額達(dá)到71億歐元，其中26億歐元來(lái)自0.33 NA和0.55 NA EUV系統(tǒng)訂單。
他說(shuō)，對(duì)ASML來(lái)說(shuō)，2021年是強(qiáng)勁成長(zhǎng)的一年。2021年ASML總營(yíng)收達(dá)186億歐元，其中的63億歐元來(lái)自于42臺(tái)EUV系統(tǒng)。
展望2022年，溫彼得指出，客戶(hù)對(duì)ASML的系統(tǒng)出貨需求高于我們的生產(chǎn)能力。終端市場(chǎng)的強(qiáng)勁需求為ASML客戶(hù)帶來(lái)量產(chǎn)更多晶圓的壓力。為了支持客戶(hù)，ASML提供客戶(hù)在既有機(jī)臺(tái)上的高生產(chǎn)力升級(jí)方案，另一方面也正在努力優(yōu)化工廠的生產(chǎn)周期、增加機(jī)臺(tái)出貨量。其中一種縮短生產(chǎn)周期的方法是略過(guò)在工廠進(jìn)行測(cè)試項(xiàng)目，加速出貨流程，直接在客戶(hù)端進(jìn)行最終測(cè)試和正式驗(yàn)收。盡管這些出貨量的營(yíng)收認(rèn)列將被推遲到客戶(hù)正式接受之前，但確實(shí)為我們的客戶(hù)爭(zhēng)取更早獲得晶圓產(chǎn)能的機(jī)會(huì)。
ASML預(yù)期2022年第一季的營(yíng)收約落在33億歐元到35億歐元間，毛利率約49%，研發(fā)成本約7.6億歐元，管銷(xiāo)費(fèi)用約2.1億歐元。溫彼得表示：「調(diào)降第一季財(cái)測(cè)的主因是: 大量的快速出貨導(dǎo)致約20億歐元的收入將推遲至后續(xù)季度認(rèn)列。同時(shí)，目前預(yù)期有6臺(tái)EUV的系統(tǒng)認(rèn)列將遞延遲至2023年。盡管如此，綜觀2022年，公司預(yù)計(jì)全年?duì)I收成長(zhǎng)仍將達(dá)到20%。
單價(jià)超19億Intel全球首個(gè)下單訂購(gòu)ASML最先進(jìn)EUV光刻機(jī)
1月19日最新消息，Intel宣布第一個(gè)下單訂購(gòu)了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機(jī)。
TWINSCAN EXE:5200是ASML的高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)，其吞吐量超每小時(shí)220片晶圓（wph）。
從路線圖來(lái)看，EXE:5200預(yù)計(jì)最快2024年底投入使用，2025年開(kāi)始大規(guī)模應(yīng)用于先進(jìn)芯片的生產(chǎn)。
事實(shí)上，4年前，ASML的第一代高NA（0.55 NA）光刻機(jī)EXE:5000，Intel就是第一個(gè)下單的公司。不過(guò)當(dāng)前的7nm、5nm芯片還并非是其生產(chǎn)，而是0.33NA EUV光刻機(jī)。
和0.33NA光刻機(jī)相比，0.55NA的分辨率從13nm升級(jí)到8nm，可以更快更好地曝光更復(fù)雜的集成電路圖案，突破0.33NA單次構(gòu)圖32nm到30nm間距的極限。
外界預(yù)計(jì)，第一代高NA光刻機(jī)EXE:5000會(huì)率先用于3nm節(jié)點(diǎn)，至于EXE:5200，按照Intel的制程路線圖，2025年至少是20A或者18A，也就是5nm和5nm+。
此前，ASML發(fā)言人曾對(duì)媒體透露，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時(shí)密度增加2.9倍。未來(lái)比3nm更先進(jìn)的工藝，將極度依賴(lài)高NA EUV光刻機(jī)。
最后不得不說(shuō)，Intel能搶到第一單，除了和ASML一致緊密合作外，當(dāng)然也是因?yàn)椤扳n能力”，Gartner分析師Alan Priestley稱(chēng)，0.55NA下一代EUV光刻機(jī)單價(jià)將翻番到3億美元（約合19億元人民幣）。