臺(tái)積電1億美元入股Arm！4.3億美元拿下EUV掩模寫(xiě)入設(shè)備商10%股權(quán)

9月13日消息，晶圓代工大廠臺(tái)積電于12日開(kāi)臨時(shí)董事會(huì)，確定將以不超過(guò)1億美元（約新臺(tái)幣31.95億元）的額度，認(rèn)購(gòu)日本軟銀集團(tuán)旗下的半導(dǎo)體IP大廠Arm 的普通股股票。至于認(rèn)購(gòu)價(jià)格，臺(tái)積電表示將依Arm首次公開(kāi)發(fā)行最終價(jià)格而定。

根據(jù)先前外媒的報(bào)導(dǎo)，針對(duì)Arm IPO，當(dāng)前市場(chǎng)上的認(rèn)購(gòu)股分遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)公開(kāi)發(fā)行股數(shù)接近6倍。由于IPO獲得超額認(rèn)購(gòu)，Arm正在討論調(diào)高定價(jià)區(qū)間的可能性，希望將市值推升至545億美元以上。這也使得Arm IPO將成為近兩年來(lái)美國(guó)最大的IPO計(jì)劃，其中包括臺(tái)積電、蘋(píng)果、英偉達(dá)、三星及AMD等科技大廠都爭(zhēng)相投資，積極成為Arm的戰(zhàn)略投資者。

日前，臺(tái)積電董事長(zhǎng)劉德音在SEMICON Taiwan會(huì)場(chǎng)上被問(wèn)到此事時(shí)就曾經(jīng)表示，還在評(píng)價(jià)中，預(yù)計(jì)本周就會(huì)決定。而因?yàn)锳rm是臺(tái)積電半導(dǎo)體生態(tài)系重要的一環(huán)，臺(tái)積電也希望Arm能公開(kāi)上市成功。

另外，臺(tái)積電在臨時(shí)董事會(huì)上也核準(zhǔn)，以不超過(guò)4.328億美元（約新臺(tái)幣138.5億元）額度內(nèi)，自英特爾手中取得奧地利半導(dǎo)體設(shè)備商IMS的10%股權(quán)。

資料顯示，IMS Nanofabrication 于 1985 年在維也納成立。他們進(jìn)行了激動(dòng)人心的研究，但成立后的幾十年沒(méi)有產(chǎn)生出有影響力的產(chǎn)品。直到2009 年，由于他們的多束直寫(xiě)可編程電子束系統(tǒng)的前景廣闊，他們獲得了英特爾的投資。最終，英特爾甚至收購(gòu)了該公司，因?yàn)樗麄冊(cè)?2016 年發(fā)布了第一款商用多光束掩模刻錄機(jī)。該產(chǎn)品及其衍生產(chǎn)品適用于 7nm 以上的所有工藝節(jié)點(diǎn)。

EUV 光刻技術(shù)被視為先進(jìn)半導(dǎo)體制造的最大瓶頸，但這些價(jià)值超過(guò) 1.5 億美元的工具需要有高精度的光掩模來(lái)進(jìn)行配合。光掩模是光刻工具對(duì)芯片層進(jìn)行圖案化所需的物理模板。IMS 的多光束掩模寫(xiě)入器則是制造出高精度光掩模的關(guān)鍵設(shè)備。就像在印刷機(jī)或木版印刷時(shí)代一樣，主印刷機(jī)可以精心創(chuàng)建所有印刷品的基本設(shè)計(jì)；掩模寫(xiě)入器幫助創(chuàng)建掩模組，然后通過(guò)光刻機(jī)將其復(fù)刻在芯片上。

多光束掩模寫(xiě)入器實(shí)際上比 EUV 光刻工具更精確和準(zhǔn)確，但速度非常慢，這是它們僅用于創(chuàng)建掩模組的一個(gè)重要原因。IMS 與 NuFlare（東芝旗下）是競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，但 東芝的工具不太精確，而且速度較慢。此外，他們的多光束掩模寫(xiě)入器在 IMS多年后才開(kāi)始進(jìn)入市場(chǎng)。市場(chǎng)上一度超過(guò) 98% 的生產(chǎn) EUV 掩模是使用IMS的多光束掩模寫(xiě)入器制造的。

每個(gè)單獨(dú)的芯片設(shè)計(jì)都帶有一組掩模，在 3nm 級(jí)節(jié)點(diǎn)上的成本可能高達(dá) 5000 萬(wàn)美元。新設(shè)計(jì)不僅需要新掩模，現(xiàn)有設(shè)計(jì)也需要新掩膜。隨著時(shí)間的推移，掩膜開(kāi)始出現(xiàn)缺陷；因此，它們需要修理，或者必須制造新的來(lái)替換老化的。

如果沒(méi)有IMS的掩模寫(xiě)入器，所有 EUV 工藝技術(shù)都將陷入停頓。EUV 用于 7nm 及以下的所有尖端工藝節(jié)點(diǎn)。自 7nm 以來(lái)，三星的所有邏輯工藝技術(shù)也都使用了 EUV。三星還在其最新的兩代 DRAM 工藝技術(shù)中使用了 EUV。此外，SK 海力士在其最新一代的 DRAM 工藝技術(shù)中使用了 EUV。美光計(jì)劃將 EUV 引入DRAM。這3家公司占DRAM產(chǎn)量的90%以上。 雖然領(lǐng)先的邏輯至關(guān)重要，但每一種電子產(chǎn)品都使用 DRAM，因此不應(yīng)低估 IMS和奧地利在半導(dǎo)體供應(yīng)鏈上的重要性。

針對(duì)臺(tái)積電購(gòu)買英特爾手中的IMS持股，市場(chǎng)人士表示，近來(lái)英特爾持續(xù)處分手中的IMS持股，除針對(duì)公司對(duì)現(xiàn)金的需求之外，就臺(tái)積電方面來(lái)看，也能借此保障關(guān)鍵供應(yīng)鏈經(jīng)營(yíng)權(quán)與營(yíng)運(yùn)的穩(wěn)定性。

編輯：芯智訊-林子