ASML開(kāi)始向英特爾交付首套High-NA EUV光刻機(jī)，售價(jià)超3億美元！

當(dāng)?shù)貢r(shí)間12月21日，荷蘭光刻機(jī)大廠(chǎng)ASML通過(guò)社交媒體X平臺(tái)宣布，其首套High-NA EUV光刻機(jī)正從荷蘭Veldhoven總部開(kāi)始裝車(chē)發(fā)貨，將向英特爾進(jìn)行交付。

ASML在聲明中稱(chēng)：“我們很高興、也很自豪，能夠向英特爾交付我們的第一個(gè)高數(shù)值孔徑 EUV 系統(tǒng)?！?/p>

自2017年ASML的第一臺(tái)量產(chǎn)的EUV光刻機(jī)正式推出以來(lái)，三星的7nm、5nm、3nm工藝，臺(tái)積電的第二代7nm、5nm、3nm工藝的量產(chǎn)都是依賴(lài)于0.33 數(shù)值孔徑（NA）的EUV光刻機(jī)來(lái)進(jìn)行生產(chǎn)，該類(lèi)型光刻機(jī)的分辨率可以達(dá)到8nm。

目前，隨著三星、臺(tái)積電、英特爾3nm制程的相繼量產(chǎn)，目前這三大先進(jìn)制程制造廠(chǎng)商都在積極投資2nm制程及更先進(jìn)的埃米級(jí)制程的研發(fā)，以滿(mǎn)足未來(lái)高性能計(jì)算等先進(jìn)芯片需求，并在晶圓代工市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)當(dāng)中取得優(yōu)勢(shì)。而2nm及以下的尖端工藝的實(shí)現(xiàn)則可能需要依賴(lài)于A(yíng)SML新一代的0.55數(shù)值孔徑 (High-NA) EUV光刻機(jī)EXE:5000系列。

相對(duì)于0.33 NA的EUV光刻機(jī)來(lái)說(shuō)，配備0.55 NA透鏡的High-NA EUV光刻機(jī)的分辨率可以達(dá)到更高的8nm分辨率，同時(shí)設(shè)備的體積也更大，各類(lèi)組件裝在250個(gè)單獨(dú)的板條箱中運(yùn)輸，其中包括13 個(gè)大型集裝箱，組裝后的High-NA EUV光刻機(jī)將比卡車(chē)還要大，成本也更是高達(dá)3億至4億美元。

英特爾于 2022 年率先向ASML訂購(gòu)了第一臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)，其他已訂購(gòu)High-NA EUV光刻機(jī)的芯片制造商還包括臺(tái)積電、三星、SK 海力士和美光。

根據(jù)規(guī)劃，英特爾將在2024年上半年量產(chǎn)Intel 20A制程，下半年將量產(chǎn)更先進(jìn)的Intel 18A制程。臺(tái)積電、三星都將在2025年量產(chǎn)2nm制程。

英特爾此前曾表示，首套High-NA EUV曝光機(jī)將用于學(xué)習(xí)如何生產(chǎn)Intel 18A先進(jìn)制程，有望使英特爾領(lǐng)先對(duì)手臺(tái)積電和三星。因High-NA EUV曝光機(jī)與標(biāo)準(zhǔn)EUV光刻機(jī)差異不小，需大量修正基礎(chǔ)設(shè)施，提升使用經(jīng)驗(yàn)，故領(lǐng)先對(duì)手幾季部署對(duì)英特爾是很大優(yōu)勢(shì)。

編輯：芯智訊-林子