美國再次放寬對華高技術(shù)產(chǎn)品出口 65nm以下刻蝕設(shè)備不再受限
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在SEMI及會員公司的共同努力下，經(jīng)過9個月的等待，美國聯(lián)邦政府正式實施放寬刻蝕設(shè)備的出口條件，原來180nm的技術(shù)審核指標(biāo)被正式放寬到了65nma。
本文引用地址：http://butianyuan.cn/article/113313.htm
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在SEMI及會員公司的共同努力下，經(jīng)過9個月的等待，美國聯(lián)邦政府正式實施放寬刻蝕設(shè)備的出口條件，原來180nm的技術(shù)審核指標(biāo)被正式放寬到了65nma。
本文引用地址：http://butianyuan.cn/article/113313.htm
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