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大陸半導體業(yè)發(fā)展遇障礙 需政策引導

—— 全球IC產業(yè)發(fā)展呈現(xiàn)三大趨勢
作者: 時間:2013-05-23 來源:華強電子網(wǎng) 收藏

  2012年我國設計企業(yè)前10家的銷售額總和達到231.17億元,比上年增加29.7億元。10家企業(yè)的銷售額總和占全行業(yè)銷售額總和的比例為33.97%,比上年的31.76%增加2.21個百分點。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/145603.htm

  IC產業(yè)發(fā)展的根本要素或動力是什么?業(yè)界普遍認為,政府大力支持、務實的政策制度、建設良好的基礎設施和充沛的人力資源,是后發(fā)國家和地區(qū)IC產業(yè)后來居上的幾大關鍵要素。了解這些要素的國家和地區(qū)為數(shù)不少,為什么只有日本、韓國和我國臺灣等地方的企業(yè)脫穎而出?研究表明,出現(xiàn)這種現(xiàn)象的原因主要與政策引導和制度創(chuàng)新密切相關。

  全球IC產業(yè)發(fā)展呈現(xiàn)三大趨勢

  IC企業(yè)按專業(yè)分工,可分為IDM、無晶圓、制造、、設備制造、材料生產等環(huán)節(jié)的獨立企業(yè)。

  國際集成電路技術發(fā)展有三個主要趨勢:一是技術發(fā)展繼續(xù)遵循摩爾定律(MM),英特爾CMOS技術已達到22nm工藝節(jié)點,擬于2013年引入14nm工藝節(jié)點,并正在部署7nm。臺積電最高端CMOS達到28nm,正在規(guī)劃2015年到達10nm。二是功能集成,稱為拓展摩爾定律(MtM),即在單個芯片/封裝/模塊上,更多地集成包括RF、功率控制、無源元件、傳感器、制動器等功能單元。三是發(fā)展新興材料和器件,預計到2019年,研究出超過CMOS器件性能的新器件,可用于繼續(xù)提高CMOS工藝的能力。

  IC產業(yè)發(fā)展出現(xiàn)三個新特點。一是強勢IDM企業(yè)各據(jù)一方。如英特爾、三星、德州儀器、ADI、英飛凌、MAXIM等。目前英特爾等超級大企業(yè)生產技術領先的通用型產品有微處理器、動態(tài)存儲器和閃存等。另一些企業(yè)則專注于較小的或細分的市場,生產高性能或特色產品,如ADI模擬IC中的數(shù)據(jù)轉換器,其產品接近于全球壟斷。另外一些系統(tǒng)廠商將芯片制造廠作為自己的一個子公司,生產用于自己系統(tǒng)或整機上的產品。

  二是向輕資產(晶圓)移動趨勢。IC企業(yè)按專業(yè)分工,可分為IDM(從芯片設計、制造到封裝全部由自已完成)、無晶圓(設計)、制造(包括純代工)、、設備制造、材料生產等環(huán)節(jié)的獨立企業(yè)。所謂輕晶圓模式是指傳統(tǒng)IDM廠商將核心工藝留在自己的制造工廠,而將非核心工藝逐步外包給代工廠的商業(yè)模式。

  三是虛擬企業(yè)運作模式得到發(fā)展。一些IDM和代工廠聯(lián)合起來“抱團取暖”,形成廣義IDM。各種虛擬企業(yè)的定義共同點在于:獨立組織的暫時結盟,合作伙伴間的動態(tài)互換,以最終用戶的需求為出發(fā)點,把合作者的主要能力結合在一起,高度利用信息及通信技術等。例如IBM、三星、特許的通用平臺技術聯(lián)盟就是一種虛擬企業(yè)運作模式,主要特點是開發(fā)出能夠橫跨三個公司的通用平臺工藝技術,客戶能夠在不增加附加成本情況下同時使用多個制造廠房。

  我國大陸IC產業(yè)發(fā)展面臨三大障礙

  創(chuàng)新聯(lián)盟、官學研產協(xié)作研發(fā)機制運行效率不高,是制約我國大陸集成電路產業(yè)快速發(fā)展的重大因素之一。

  我國大陸集成電路產業(yè)最近幾年獲得了較快的發(fā)展,一些優(yōu)勢企業(yè)的競爭力開始顯現(xiàn)。以增長最快的設計業(yè)為例,2011年IC設計業(yè)整體銷售額繼續(xù)保持較高增速,規(guī)模達到473.74億元,同比大幅增長30.2%。2012年我國設計企業(yè)前10家的銷售額總和達到231.17億元,比上年增加29.7億元。10家企業(yè)的銷售額總和占全行業(yè)銷售額總和的比例為33.97%,比上年的31.76%增加2.21個百分點。第一名企業(yè)的銷售額達到11.83億美元。展訊通信、銳迪科、海思、珠海全志等企業(yè)在智能移動終端SoC領域做出了不俗的成績。但是與我國臺灣企業(yè)以及韓國企業(yè)比較,仍然存在發(fā)展速度相對較慢、產品技術含量低、企業(yè)競爭力差的情況。打價格戰(zhàn)還是企業(yè)的主要商業(yè)策略,“正向設計”依然未成主流,基礎能力提升慢的狀況仍未改觀。全行業(yè)的銷售額總和可能還小于世界排名第一的設計企業(yè)的銷售額。

  目前,大陸境內制造廠有近50家,但多數(shù)生產線贏利能力都不強。由于中國具有勞動力成本優(yōu)勢,國外企業(yè)將中低端環(huán)節(jié)部分轉移到了大陸境內,但是高端設計、基礎裝備和特殊材料依然受到控制,在高端產品開發(fā)和規(guī)模效益上尚無法與國外同類企業(yè)相比。

  我國大陸IC產業(yè)的發(fā)展面臨三大障礙

  一是產業(yè)鏈各環(huán)節(jié)的配套和協(xié)同問題。產業(yè)鏈各個環(huán)節(jié)的配套和協(xié)同沒有合理的布局。首先是集成電路的應用行業(yè)與集成電路產業(yè)的嚴重脫節(jié);其次是集成電路產業(yè)鏈各環(huán)節(jié)的配套和協(xié)同;再次是在產業(yè)發(fā)展初期由于基礎薄弱、區(qū)域發(fā)展不平衡等原因,集成電路相關產業(yè)和支持性產業(yè)沒有發(fā)展到位,造成企業(yè)效率低下和成本高昂,產業(yè)鏈各環(huán)節(jié)配套和協(xié)同有較大縫裂,成套設備供應、材料產品質量離一流IC企業(yè)的要求還有不小差距。

  二是技術障礙。首先是中小企業(yè)進入新的產業(yè)所面臨的技術障礙。由于行業(yè)具有技術密集、資本密集和發(fā)展迅速等特點,使得中小企業(yè)在知識獲得、技術引進、消化吸收、建廠投產等方面困難重重,短期內打造出有效的全球性競爭優(yōu)勢有較大的難度。設計是集成電路產業(yè)鏈中發(fā)展最為活躍的領域,去年僅大陸境內集成電路設計企業(yè)就達到600家左右,但是企業(yè)整體實力偏弱、偏小,第一名未能進入世界前10位,全行業(yè)銷售額不及世界排名第一的企業(yè)。尤其是沒有發(fā)展出具備國際競爭力的主流產品,絕大多數(shù)產品處于邊緣位置。其次是由于企業(yè)對技術消化緩慢,人才資源匱乏,企業(yè)各自為政,沒有形成促進有償共享知識專利的機制,IP交易不暢,缺乏市場化引導。在制造方面,國際上主流的CMOS技術已經(jīng)達到28nm和22nm,昂貴的投資、不斷的技術升級和晶圓線的快速折舊,把眾多的企業(yè)排擠到圈外。

  三是創(chuàng)新聯(lián)盟、官學研產協(xié)作研發(fā)機制運行效率不高,這是制約我國大陸集成電路產業(yè)快速發(fā)展的又一重大因素。官學研產結合不夠緊密,經(jīng)濟實體迫于維持自身生計,很難獨自完成行業(yè)需要的適應產業(yè)升級措施,與臺灣新竹工業(yè)園區(qū)相關機制相比存在明顯不足。臺灣新竹工業(yè)園建有一流的學院,完善的基礎設施,聚集大量的留美工程師、專家學者和企業(yè)家,享有通關等方面的優(yōu)先權,推動了臺灣集成電路產業(yè)的發(fā)展。我國大陸需要提高政府、研究機構、企業(yè)間的互動效率,提高官學研產協(xié)作研發(fā)機制運行效率水平。

  要實現(xiàn)趕超需結合實情學習模仿

  建立高效實用的官學研產一體化的研發(fā)保障體制,實現(xiàn)集成電路產業(yè)跨越式發(fā)展。

  后發(fā)國家和地區(qū)實現(xiàn)技術導入和產業(yè)升級將面臨的突出問題是:難以以合適的成本獲得新興產業(yè)必需的技術。目前中國的IC產業(yè)面臨的主要問題是企業(yè)規(guī)模小、資金缺乏、專業(yè)人才不足、自主創(chuàng)新能力弱。

  IC產業(yè)是一個資金、技術、人才密集型產業(yè),在后發(fā)國家和地區(qū)起步之前,美國等先發(fā)國家已經(jīng)在技術上處于絕對領先地位,產品市場基本被壟斷。而在起步階段中國企業(yè)則十分弱小。IC產業(yè)所需投資規(guī)模大,一條12英寸90nm生產線投資額超過50億美元,一個產品開發(fā)一套掩膜版的費用通常達到每套100萬美元,且晶圓的制造成本每年以5%~6%的速度增加,進入門檻很高;技術與設備更新?lián)Q代快,如CAD設備和軟件快速升級換代;投資風險大,使得企業(yè)融資和再融資變得困難。半導體作為一個技術飛速發(fā)展的行業(yè),令人目不暇接的技術信息和產品升級,讓中小企業(yè)難以選擇和跟進,獲得知識(產權)并消化吸收存在很大困難,嚴重阻礙了企業(yè)新品研發(fā)或自主創(chuàng)新。中小企業(yè)難以留住足夠數(shù)量的中高端人才。

  在發(fā)展初期,日本、韓國和我國臺灣地區(qū)的成功經(jīng)驗表明:后發(fā)國家和地區(qū)要實現(xiàn)追趕和超越,必須結合國情進行學習和模仿。日本企業(yè)通過學習美國企業(yè)模式成為20世紀80年代IC產業(yè)的佼佼者,以三星為代表的韓國企業(yè)學習模仿日本企業(yè),成功重走日本走過的道路。我國臺灣地區(qū)由工研院電子所帶動發(fā)展的成功模式具有借鑒意義,為我國IC產業(yè)解決各種矛盾和困難提供了非常好的借鑒案例。

  臺灣工業(yè)技術研究院電子工業(yè)研究所電子所在臺灣地區(qū)微電子工業(yè)的發(fā)展史上起著關鍵的作用,電子所擔當了產業(yè)界技術路線引導者和組織者的角色,是中小企業(yè)成長的強力推進器。

  學習仿效臺灣“工研院”模式,可通過建立高效實用的官學研產一體化的研發(fā)保障體制,引導并推動國內設計、制造和封裝產業(yè)發(fā)展,推動關鍵CAD軟件、半導體設備、半導體材料等配套工業(yè)發(fā)展,實現(xiàn)集成電路產業(yè)跨越式發(fā)展。

  臺灣半導體業(yè)發(fā)展的獨特模式

  臺灣半導體產業(yè)的崛起是后發(fā)地區(qū)實現(xiàn)跨越式技術成長的典范。1974年9月臺灣成立臺灣工研院電子工業(yè)研究發(fā)展中心(電子所前身),同年10月在美國成立電子技術顧問委員會(TAC),協(xié)助工研院對集成電路的技術轉移戰(zhàn)略進行評估。

  臺灣經(jīng)濟決策者通過對產業(yè)認真分析,選擇了當時應用廣泛的單極技術以及尚處于生命周期成長期的CMOS技術為切入點。電子所將從美國RCA公司轉移來的技術進行充分消化吸收之后,將技術向民企轉移,于1980年衍生出了公私合資企業(yè)聯(lián)華電子公司,私方占股30%。

  1979年7月新竹科學工業(yè)園區(qū)動工興建,該地鄰近工研院電子所、臺灣交通大學和臺灣清華大學,具有科研和人才的關聯(lián)優(yōu)勢,臺灣有關部門對該區(qū)實行系列稅收和金融優(yōu)惠政策。1983年,電子所實施7億美元的超大型集成電路(VLSI)計劃,衍生出第二家公司臺積電。1990年,臺灣啟動了第三次大型半導體技術發(fā)展計劃,成立了戰(zhàn)略聯(lián)盟來進行DRAM技術的研發(fā)。臺積電等主要企業(yè)抓住了設計、制造和封測等環(huán)節(jié)價值鏈分裂的時機,將代工做到了極致,促進了上游IC設計公司的興起,并帶動整個產業(yè)發(fā)展,僅在其成立后的兩年內,就有超過40家專業(yè)設計公司在新竹成立。而那些起步較晚的臺灣IC制造公司,兼營少量的晶圓代工,起到了對產業(yè)風險的分散作用。

  從上世紀80年代后期起,半導體產業(yè)強勢崛起,從股票市場獲得大量融資,加之本地學生和海歸人才持續(xù)加盟,以及全球對IC產品的市場需求大增等因素的合力推動,造就了臺灣半導體產業(yè)完整的產業(yè)鏈和世界領先地位。臺灣通過工研院電子所這一平臺,引導推動了臺灣半導體產業(yè)的發(fā)展。



關鍵詞: 半導體 封裝測試

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