MOSFET柵漏電流噪聲模型研究
氧化層中的陷阱可發(fā)射載流子至溝道或從溝道中俘獲載流子。對(duì)于近二氧化硅/多晶硅界面捕獲的載流子,若其再發(fā)射,進(jìn)入多晶硅柵,應(yīng)用朗之萬方程,假定產(chǎn)生幾率不受再發(fā)射過程的影響,則單位體積內(nèi)占據(jù)陷阱數(shù)量漲落的譜密度為
其中,本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/181165.htm
由BSIM4提出的簡(jiǎn)易MOS模型的柵極電流分量模型
其中,JG是柵極電流密度,L是溝道長(zhǎng)度,W是溝道寬度,x是沿溝道的位置(源極處x=0,漏極處x=L),IGS和IGD是柵極電流的柵/源和柵/漏分量。通過線性化柵電流密度與位置的關(guān)系,簡(jiǎn)化這些等價(jià)噪聲電流分析表達(dá)式,所得的總柵極電流噪聲表達(dá)式為
常數(shù)KG可通過低頻噪聲實(shí)驗(yàn)測(cè)試獲得,IG可通過直流測(cè)試得到。
(4)柵電流噪聲電容等效電荷漲落模型。
FET溝道中的熱噪聲電壓漲落導(dǎo)致了溝道靜電勢(shì)分布的漲落。溝道成為MOS電容的一塊平板,柵電容之間的電壓漲落引起電荷漲落,將電荷漲落等效于柵電流漲落。在Van Der Ziel對(duì)JFET誘生柵噪聲的早期研究之后,Shoji建立了柵隧穿效應(yīng)的MOSFET模型,即是將MOS溝道作為動(dòng)態(tài)分布式的RC傳輸線。器件溝道位置x處跨越△x的電壓漲落驅(qū)動(dòng)兩處傳輸線:一處是從x=0展伸至x=x,另一處從x=x展伸至x=L。柵電流漲落作為相應(yīng)的漏一側(cè)電流漲落和源一側(cè)電流漲落之間的差異估算得出。在極端復(fù)雜的計(jì)算中保留Bessel函數(shù)解的首要條件,于器件飽和條件下,估算得出了柵電流漲落噪聲頻譜密度解析表達(dá)式為
2 模型分析與探討
實(shí)驗(yàn)表明,超薄柵氧MOSFET柵電流噪聲呈現(xiàn)出閃爍噪聲和白噪聲成分,測(cè)試曲線表明白噪聲接近于散粒噪聲(2qIG)。對(duì)于小面積(W×L=0.3×10 μm2)器件,1/f噪聲成分幾乎為柵電流IG的二次函數(shù),柵電流噪聲頻譜密度SIG(f)與柵電流IG存在冪率關(guān)系,即SIG(f)∝IGγ。
基爾霍夫電流相關(guān)文章:基爾霍夫電流定律
評(píng)論