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新IGBT技術(shù)提高應(yīng)用性能

作者: 時(shí)間:2009-07-15 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

當(dāng)在更高電流密度情況下使用新一代,具有高電流密度的續(xù)流二極管也是需要的,尤其是對(duì)那些具有最大芯片封裝密度的模塊?;谶@個(gè)原因,在現(xiàn)有CAL(可控軸向長(zhǎng)壽命)二極管技術(shù)的基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)了新的CAL4續(xù)流二極管,其特點(diǎn)在于對(duì)任何電流密度的軟開(kāi)關(guān),耐用度(高di/dt)以及低反向恢復(fù)峰值電流和關(guān)斷損耗。CAL4 FWD的基本結(jié)構(gòu)只是背面帶有n/n+結(jié)構(gòu)的薄n---襯底(圖1b)。為了減少產(chǎn)生的損耗,n緩沖層被優(yōu)化,采用較薄n+晶圓,活動(dòng)表面積增大(即小邊結(jié)構(gòu)),縱向載流子壽命被優(yōu)化。因此,新的,經(jīng)過(guò)改進(jìn)的CAL4二極管是很出色,除了電流密度提高了30%,其正向電壓更低及切換損耗也與上一代相類似(CAL3,Tjop =常數(shù))。為增加p/n結(jié)的最高結(jié)溫至175°C,使用了新的邊緣端鈍化. 受益于上述的優(yōu)化工作,CAL4 FWD是第四代應(yīng)用的完美匹配。

新一代芯片擴(kuò)大了的溫度范圍-175°C(Tjmax)在適當(dāng)?shù)目煽啃栽囼?yàn)中進(jìn)行了驗(yàn)證(例如:柵應(yīng)力,高溫反偏(HTRB),高濕高溫反偏(THB)測(cè)試。

表1顯示了英飛凌的3個(gè)主要技術(shù)系列的最重要的專用參數(shù),正如1200V SEMITRANS®模塊所使用的。

為使數(shù)據(jù)具有可比性,表2中所有的開(kāi)關(guān)損耗(Esw)均為結(jié)溫Tj=125°C時(shí)的數(shù)據(jù)。而IGBT4模塊的數(shù)據(jù)手冊(cè)中的值為Tj=150°C時(shí)的數(shù)據(jù)。VCEsat值給定的是芯片級(jí)的,相應(yīng)的端子級(jí)會(huì)更高,因?yàn)槎俗由嫌袎航怠?p>3. 模塊外殼的要求

表2顯示了SEMITRANS®模塊外殼的主要參數(shù)和這些參數(shù)對(duì)最終產(chǎn)品所產(chǎn)生的影響的詳細(xì)信息。

表2:模塊外殼屬性及所產(chǎn)生的影響

3.1 端子電阻
模塊的端子電阻影響電路的工作效率。在圖2所示的例子中,導(dǎo)通損耗比SEMITRANS®高11%。這相當(dāng)于一個(gè)每相絕對(duì)值約90W,三相共270W的功率變頻器。

圖2:高端子電阻的影響

3.2 熱阻

這一參數(shù)影響最大允許功率損耗,從而也影響模塊中IGBT和二極管的最大允許的集電極電流。下列因素對(duì)決定熱阻的大小至關(guān)重要:

芯片尺寸(面積)

模塊設(shè)計(jì)(焊接、陶瓷基板(DCB)、基板)

系統(tǒng)設(shè)計(jì)(導(dǎo)熱硅脂,散熱器)



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