佳能發(fā)布FPD曝光設(shè)備“MPAsp-E903T”, 應(yīng)用于高精細(xì)中小型顯示面板制造且解析度達(dá)1.2μm

佳能^※1將于2020年11月下旬正式發(fā)售FPD（Flat Panel Display）曝光設(shè)備新產(chǎn)品“MPAsp-E903T”。該產(chǎn)品可應(yīng)對(duì)第6代玻璃基板尺寸^※2，針對(duì)因進(jìn)一步高精細(xì)化而備受期待的新一代中小型顯示面板市場(chǎng)，可以實(shí)現(xiàn)1.2μm^※3的解析度（L/S^※4）。

MPAsp-E903T

■   實(shí)現(xiàn)FPD曝光設(shè)備中的1.2μm高解析度顯示面板技術(shù)隨著OLED的普及逐漸向高精細(xì)化方向發(fā)展，同時(shí)在智能手機(jī)上的應(yīng)用變得越來(lái)越薄型化、輕量化，而在折疊式應(yīng)用上趨向不斷大型化。另一方面，在VR相關(guān)的顯示產(chǎn)品上小型化的趨勢(shì)也在不斷發(fā)展，呈現(xiàn)多樣化的需求。新產(chǎn)品可以應(yīng)對(duì)新一代顯示面板制造中不可或缺的高精細(xì)化需求，致力于實(shí)現(xiàn)多種面板的生產(chǎn)制造。

在佳能的FPD曝光設(shè)備中，新產(chǎn)品首次※5搭載使用了DUV（深紫外線）※6波長(zhǎng)的新光源。該產(chǎn)品充分利用了鏡面光學(xué)系統(tǒng)特有的優(yōu)點(diǎn)，即使波長(zhǎng)變化對(duì)色差影響很小，通過(guò)使用比以往的紫外線波長(zhǎng)更短的新光源以及新開(kāi)發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了1.2μm解析度的曝光。如果應(yīng)用相移掩模等超解析技術(shù)※7可進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)1.0μm解析度的曝光，助力顯示技術(shù)的高精細(xì)化發(fā)展。

■   多樣化的曝光模式，用戶可靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線

在搭載新投影光學(xué)系統(tǒng)和新光源系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，新產(chǎn)品增加了曝光模式數(shù)量，可匹配合適的曝光條件，實(shí)現(xiàn)多種電路圖的高效曝光。此外，新產(chǎn)品還可以與掩模版尺寸和設(shè)備界面都共通的上一代機(jī)型“MPAsp-E813H”（2014年9月發(fā)布）組合使用，便于用戶靈活地構(gòu)建工藝產(chǎn)線。

■   兼顧生產(chǎn)性，提升套刻精度

通過(guò)設(shè)備內(nèi)部布局和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)的改進(jìn)，實(shí)現(xiàn)了±0.25μm的高套刻精度（重合性精度）。因此，該產(chǎn)品可以有效滿足用戶高精細(xì)面板生產(chǎn)的需求。

※1  為方便讀者理解，本文中佳能可指代：佳能（中國(guó)）有限公司，佳能股份有限公司，佳能品牌等

※2  1,500×1,850mm尺寸的玻璃基板，應(yīng)用于以智能手機(jī)為代表的中小型顯示面板的制造中。

※3  1μm為百萬(wàn)分之一米（＝1mm 的千分之一）。

※4  Line and Space的簡(jiǎn)稱。Line（線程）和Space（間距）等距離間隔排列電路圖。

※5  針對(duì)FPD曝光設(shè)備。截至2020年11月9日。（佳能調(diào)查）

※6  Deep ultra-violet的簡(jiǎn)稱。與以往的FPD曝光設(shè)備使用的紫外線相比更短波長(zhǎng)的紫外線。

※7  控制光的位相或強(qiáng)度，使曝光設(shè)備解析度提升的技術(shù)。

＜主要特點(diǎn)＞

1. 實(shí)現(xiàn)FPD曝光設(shè)備中的1.2μm高解析度

●   在FPD曝光設(shè)備中，新產(chǎn)品首次搭載使用DUV（深紫外線）波長(zhǎng)的新光源。充分利用了即使波長(zhǎng)變化也對(duì)色差影響很小的鏡面光學(xué)系統(tǒng)所特有的優(yōu)點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)了比以往所使用的g線（436nm※），h線（405nm）和i線（365nm）更短的290～380nm。由于使用了新光源以及新開(kāi)發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng)，新產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)了1.2μm解析度曝光，可以推進(jìn)顯示面板的進(jìn)一步高精細(xì)化。

●    應(yīng)用相移掩模等超解析技術(shù)可實(shí)現(xiàn)1.0μm解析度的曝光。

新DUV光源和新光學(xué)系統(tǒng)示意圖（外觀從右側(cè)觀看主機(jī)時(shí)）

新舊光源波長(zhǎng)分布比較

※1nm（納米）等于10億分之1米。

2. 多樣化的曝光模式，用戶可靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線

在搭載新投影光學(xué)系統(tǒng)和新光源系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，新產(chǎn)品增加了曝光模式數(shù)量，可匹配合適的曝光條件，實(shí)現(xiàn)

多種電路圖的高效曝光。采用和上一代機(jī)型“MPAsp-E813H”共通的掩模版尺寸和設(shè)備交互界面，可實(shí)現(xiàn)新舊機(jī)型的組合使用，削減運(yùn)營(yíng)成本，便于用戶靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線。

電路圖形和曝光模式的種類(lèi)

※1　Line and Space的略稱。Line（線程）和Space（間距）等距離間隔排列電路圖。

※2　Contact Hole的略稱。為形成配線貫穿復(fù)數(shù)層的圓形電路。

※3　σ（sigma）表示，光源系統(tǒng)NA（開(kāi)口數(shù)）和投影系統(tǒng)NA（開(kāi)口數(shù)）的比率。

3. 兼顧生產(chǎn)性，提升套刻精度

通過(guò)設(shè)備內(nèi)部布局和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)的改進(jìn)，實(shí)現(xiàn)±0.25μm的高套刻精度（重合性精度）。因此，新產(chǎn)品可以有效地滿足用戶高精細(xì)面板生產(chǎn)的需求。

＜新產(chǎn)品介紹視頻＞

新產(chǎn)品的技術(shù)介紹視頻在佳能官網(wǎng)上現(xiàn)已發(fā)布。視頻配有針對(duì)產(chǎn)品特點(diǎn)的清晰易懂的解說(shuō)。

＜中小型顯示面板制造設(shè)備的市場(chǎng)動(dòng)向＞

顯示面板技術(shù)隨著OLED的普及逐漸向高精細(xì)化方向發(fā)展，同時(shí)在智能手機(jī)上的應(yīng)用變得越來(lái)越薄型化、輕量化，而在折疊式應(yīng)用上趨向不斷大型化。另一方面，在VR相關(guān)的顯示產(chǎn)品上小型化的趨勢(shì)也在不斷發(fā)展，呈現(xiàn)多樣化的需求。因此，F(xiàn)PD曝光設(shè)備致力于超高精細(xì)和可折疊式等高附加值顯示面板的量產(chǎn)。