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諾發(fā)推出300mm VECTOR等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積平臺(tái)的最新增強(qiáng)版本

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作者: 時(shí)間:2007-03-23 來(lái)源: 收藏
  中國(guó)上海—系統(tǒng)有限公司正式推出 Express™新產(chǎn)品。 Express™是公司 增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)平臺(tái)的。VECTOR Express的工藝生產(chǎn)速度提高了40%,保持了業(yè)界領(lǐng)先的生產(chǎn)效率。此外,VECTOR Express還建立了薄膜工藝性能的新標(biāo)桿,使該設(shè)備能夠被延伸到45nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)。

  VECTOR Express之所以能夠顯著提高生產(chǎn)效率和改善薄膜工藝性能,其關(guān)鍵在于SmartSoak™工藝新特點(diǎn)。SmartSoak采用了VECTOR平臺(tái)獨(dú)特的多平臺(tái)順序處理(MSSP)結(jié)構(gòu),使晶圓加熱和薄膜淀積過(guò)程相互獨(dú)立開來(lái)。通過(guò)這種方法可以使晶圓溫度在薄膜開始沉積時(shí)變得更加穩(wěn)定和一致,同時(shí)還能夠縮短薄膜沉積的時(shí)間。

  客戶評(píng)估結(jié)果顯示,將具備SmartSoak技術(shù)的VECTOR Express系統(tǒng)用于500Å TEOS薄膜沉積時(shí),0.08um大小的微粒缺陷水平是所有類似產(chǎn)品中最低的。進(jìn)行40Å柵側(cè)壁氧化膜沉積時(shí),薄膜厚度控  
制水平在1個(gè)原子層之上,表明該系統(tǒng)在晶圓內(nèi)部以及晶圓與晶圓之間的薄膜厚度控制上具有非常出色的可重復(fù)性表現(xiàn)。

  除了SmartSoak之外,VECTOR Express還采用了高精度和高速度的機(jī)械傳送零部件和晶圓自動(dòng)監(jiān)測(cè)技術(shù),使晶圓機(jī)械傳送和處理時(shí)間縮短了20%以上。此外,VECTOR Express還采用了先進(jìn)的材料傳輸新技術(shù),進(jìn)一步確保該系統(tǒng)能夠被拓展到各種薄膜沉積工藝中。

  自從于2006年第3季度開始進(jìn)行beta測(cè)試以來(lái),諾發(fā)已經(jīng)收到了20多份有關(guān)VECTOR Express系統(tǒng)的訂單,其中包括好幾個(gè)新客戶。VECTOR Express將于2007年第2季度正式用于生產(chǎn)。




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