應用材料推出45納米光掩膜刻蝕技術設備

近日，應用材料公司宣布推出先進的AppliedCenturaTetraTMIII掩膜刻蝕設備，它是目前唯一可以提供45納米光掩膜刻蝕所需要的至關重要的納米制造技術系統(tǒng)。TetraIII通過控制石英掩膜把刻槽深度控制在10Å以內(nèi)，同時把臨界尺寸損失減小到10nm以下，使客戶可以在最重要的器件層交替使用相移掩膜和強有力的光學臨近修正技術。該系統(tǒng)為基于鉻、石英、氮氧硅鉬等多種新材料的下一代光刻技術應用提供無差錯、高產(chǎn)能的刻蝕工藝。 
      
應用材料公司資深副總裁，刻蝕、清潔、前道和離子注入產(chǎn)品事業(yè)部總經(jīng)理TomSt.Dennis表示：“TetraIII系統(tǒng)在先進的二元掩膜及相移掩膜應用中的出色表現(xiàn)是幫助客戶實現(xiàn)45nm及更小技術節(jié)點掩膜產(chǎn)品的關鍵。隨著業(yè)界開發(fā)出一些潛在的新一代光刻解決方案，相關應用也以前所未有的速度不斷涌現(xiàn)。TetraIII系統(tǒng)能夠勝任所有光刻應用，在各種不同的光掩膜材料上完成刻蝕工作。”  

AppliedCenturaTetraIII系統(tǒng)所具有的超潔凈和技術擴展平臺使客戶可以在最先進的掩膜上實現(xiàn)目前所能達到的最高產(chǎn)出。