45納米到底意味著什么？

    背景：當(dāng)人們以納米為單位討論IC制程時(shí)，實(shí)際尺寸的測量值到底是多少？

　　有些時(shí)候一個(gè)非常直接的問題卻有一個(gè)及其麻煩的答案。上面的問題就是一個(gè)案例。

　　最初，IC制程是由印刷和光刻膠所能處理的最細(xì)走線來命名的，后來成功轉(zhuǎn)變?yōu)榫A表面的一個(gè)特性。實(shí)際中，這個(gè)特性總是用來定義MOS晶體管的閘極電極走線。所以，制程的名字就用來標(biāo)識(shí)閘電極的寬度。

　　為了使事件更復(fù)雜，設(shè)計(jì)者把它稱為“閘長度”。不幸的是，閘長度還是晶體管速度的一個(gè)近似測量，它決定在手工布線時(shí)你可以堆疊的晶體管數(shù)目。

　　市場部門開始利用這個(gè)單詞來表征好壞，把一個(gè)物理尺寸的測量變?yōu)榱耸袌雎晞莸臏y量。結(jié)果，350nm由實(shí)際物理尺寸的測量變?yōu)榱酥瞥痰拿?。雖然這個(gè)制程也許只可以處理380nm的線寬，但是通過不同的技巧，制程工程師可以讓晶體管的溝道寬度就好像是350nm。由此開始。

  
　　現(xiàn)在，這個(gè)數(shù)字已經(jīng)恢復(fù)了一些作為物理尺寸測量的精確性。65nm制程通常確實(shí)可以實(shí)現(xiàn)65nm線寬。但也有例外，比如，一個(gè)公司的設(shè)計(jì)制程最終可以實(shí)現(xiàn)65nm的線寬，然而從經(jīng)濟(jì)角度考慮他們會(huì)對關(guān)鍵的一兩條采用最合適的線寬。他們最終會(huì)宣布這是“65nm”制程，雖然當(dāng)前它并不能實(shí)現(xiàn)65nm的功能。

　　有意思的是，對于光刻流程來講現(xiàn)今波長193nm的光無法真正的把65nm的線由掩模轉(zhuǎn)移到晶圓的表面，所以設(shè)計(jì)者采用了很多復(fù)雜的技巧去實(shí)現(xiàn)這一過程，由光刻過程中衍射造成的模糊和畸變使得最終可以得到近似可信的65nm線寬。這些技巧包括給掩模上的線加“裝飾”，中間突出，在四周有晶絲，這些處理使得一個(gè)長方形看上去更象是墨漬測試?yán)锏膱D形。相應(yīng)的，這就意味著即使你可以在一顆中得到完美的可用65nm線寬，但是你可能無法在另一顆中得到同樣的結(jié)果。你可能必須考慮留出“裝飾”的空間。

　　所以目前65nm和45nm并不完全代表線寬，當(dāng)然也不代表你可以排列的晶體管的距離，雖然它們確實(shí)含有一些相關(guān)的信息。因此，最準(zhǔn)確的描述大概還是這些數(shù)字只是制程的名字，而不是任何具體特性的測量值。