KLA-TENCOR 推出全新控片檢測(cè)系統(tǒng) SURFSCAN SP2XP
日前,KLA-Tencor 公司推出了 Surfscan® SP2XP,這是一套專(zhuān)供集成電路(IC) 市場(chǎng)采用的全新控片檢測(cè)系統(tǒng),該系統(tǒng)是根據(jù)去年在晶片制造市場(chǎng)上推出并大獲成功的同名姊妹機(jī)臺(tái)開(kāi)發(fā)而成。全新的 Surfscan SP2XP 對(duì)硅、多晶硅和金屬薄膜上的缺陷靈敏度更高,且與其上一代業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)品 Surfscan SP2 相比,在按缺陷類(lèi)型和大小來(lái)分類(lèi)方面具有更強(qiáng)能力。其特性還包括真空承載裝置和業(yè)界最佳的生產(chǎn)能力。這些功能是為芯片制造商在晶片廠(chǎng)提供卓越的制程機(jī)臺(tái)監(jiān)控而設(shè)計(jì),使其能將領(lǐng)先的 (≥4Xnm) 元件更快地推向市場(chǎng)。新系統(tǒng)還提供了超高靈敏度操作模式,可加快晶片廠(chǎng)對(duì) 3Xnm 和 2Xnm 的下一代元件的開(kāi)發(fā)。
本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/87783.htmKLA-Tencor 晶片檢測(cè)集團(tuán)的副總裁兼總經(jīng)理 Mike Kirk 表示:"高性能元件的制造商認(rèn)識(shí)到芯片制程的復(fù)雜性日益增加,同時(shí)這些元件的市場(chǎng)窗口期也日益縮短,Surfscan SP2XP 系統(tǒng)解決了快速檢出制程機(jī)臺(tái)其正造成過(guò)多缺陷的需求,并在最低的晶片報(bào)廢率、良率損失和市場(chǎng)延遲下修正此問(wèn)題。我們的新機(jī)臺(tái)能解決此挑戰(zhàn),不僅在靈敏度和產(chǎn)能方面有所提升,而且還引入將微粒從微痕和殘留物區(qū)分出的功能,而無(wú)需耗費(fèi) SEM 復(fù)檢的資源。我們深信,Surfscan SP2XP 將幫助晶片廠(chǎng)加快其先進(jìn)元件的生產(chǎn)。"
改善了光學(xué)機(jī)械和信號(hào)處理的設(shè)計(jì),是為確保能夠捕獲到光面晶片上,以及前端和后端薄膜上哪怕是最細(xì)微的缺陷。獨(dú)一、專(zhuān)利的多頻道架構(gòu)及創(chuàng)新型的算法,讓 Surfscan SP2XP 系統(tǒng)能自動(dòng)區(qū)分缺陷類(lèi)型。與上一代行業(yè)領(lǐng)先的 Surfscan SP2 產(chǎn)品相比,該機(jī)臺(tái)還具有卓越的產(chǎn)能,讓晶片廠(chǎng)能夠每小時(shí)檢測(cè)更多晶片,或使用更高靈敏度的設(shè)置,且不會(huì)降低其產(chǎn)能。Surfscan SP2XP 秉承了該平臺(tái)的一貫聲譽(yù),具有極佳的可靠性、易用性和系統(tǒng)匹配性。
由于整個(gè)產(chǎn)業(yè)對(duì)于 Surfscan SP2XP 系統(tǒng)有著濃厚的興趣,我們已經(jīng)得到了來(lái)自亞洲、美國(guó)和歐洲的晶片廠(chǎng)設(shè)備制造商,以及領(lǐng)先的邏輯電路及內(nèi)存代工廠(chǎng)的多份訂單。我們于 2007 年 1 月發(fā)布了晶片廠(chǎng)制造市場(chǎng)專(zhuān)用的 Surfscan SP2XP 系統(tǒng)的邊緣承載裝置版本,并迅速取得了市場(chǎng)的廣泛認(rèn)同,每個(gè)領(lǐng)先的晶片制造商都安裝了多個(gè)該系統(tǒng)。
技術(shù)摘要
由于在機(jī)械、光學(xué)和信號(hào)處理子系統(tǒng)方面進(jìn)行了改進(jìn),Surfscan SP2XP 控片檢測(cè)系統(tǒng)與其上一代行業(yè)領(lǐng)先的 Surfscan SP2 產(chǎn)品相比具有多項(xiàng)優(yōu)勢(shì)。這些優(yōu)勢(shì)包括:
·產(chǎn)能最高提升 36%,這要?dú)w功光學(xué)機(jī)械、電子和軟件方面的綜合改善。
·獨(dú)一、專(zhuān)利的多頻道架構(gòu),讓 Surfscan SP2XP 系統(tǒng)得以自動(dòng)將微粒從微痕、空隙、水印和其他殘留物區(qū)分。
·引入了超高靈敏度模式,讓 Surfscan SP2XP 系統(tǒng)能用于下一代芯片的開(kāi)發(fā)。
·光學(xué)機(jī)械創(chuàng)新增強(qiáng)了機(jī)臺(tái)對(duì)多晶硅、鎢和銅等粗糙薄膜上缺陷的檢測(cè)靈敏度。結(jié)合該平臺(tái)對(duì)光滑薄膜上的基準(zhǔn)靈敏度,這一全新功能讓 Surfscan SP2XP 平臺(tái)能夠在整個(gè)晶片廠(chǎng)內(nèi)使用,為晶片廠(chǎng)的經(jīng)營(yíng)效率帶來(lái)潛在的改善。
·采用全新的微分干涉相差 (DIC) 頻道,能夠捕捉到淺、平、淡的關(guān)鍵缺陷,例如殘留物或凸起點(diǎn),所有這些缺陷均可能造成元件故障,尤其是先進(jìn)元件。
評(píng)論