北方微電子三種高端設(shè)備亮相SEMICON
為了應(yīng)對市場變化,北方微電子在集成電路設(shè)備研發(fā)的基礎(chǔ)上加大了太陽能電池領(lǐng)域高端設(shè)備的研發(fā)投入,開發(fā)出集成電路12英寸65納米硅刻蝕機、晶硅太陽能電池PECVD設(shè)備和薄膜太陽能電池PVD設(shè)備,三種高端設(shè)備將在本次展會上同時亮相。
本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/92437.htm北方微電子新研制的1 2 英寸NMC612A等離子刻蝕機,在滿足用戶對65納米多種硅刻蝕工藝需求的同北方微電子三種高端設(shè)備亮相SEMICON時,強調(diào)大工藝窗口,小占地空間,低耗材價格,高智能軟件等幾大優(yōu)勢,同時還注重45納米的工藝延伸能力。經(jīng)過一年的生產(chǎn)線驗證,已經(jīng)得到了生產(chǎn)線的較高評價。
針對綠色能源產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展,北方微電子快速響應(yīng)市場需求,開發(fā)完成了新型晶硅太陽能電池設(shè)備ESSINDTM平板式PECVD系統(tǒng)。該設(shè)備用于晶硅太陽能電池的減反射和鈍化工藝的氮化硅薄膜沉積,是國產(chǎn)先進的大產(chǎn)能平板式設(shè)備。
同時,北方微電子非常重視薄膜太陽能領(lǐng)域的發(fā)展,通過與國外公司技術(shù)合作,成功開發(fā)出ROCSTM1500太陽能平板式PVD設(shè)備,主要應(yīng)用于5代薄膜太陽能電池面板的金屬化、TCO透明電極制備和窗口層/吸收層制備工藝,該設(shè)備在晶硅太陽能和TFT等領(lǐng)域也有廣泛的應(yīng)用前景。
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