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在光刻機(jī)新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊(duì)了

  • 目前全球僅4家廠商,能夠制造光刻機(jī),分別是荷蘭的ASML,日本的尼康、佳能,和上海的微電子。從技術(shù)水平來(lái)看,ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示,ASML的光刻機(jī)能夠達(dá)到3nm的精度了,而尼康的主要在28nm及以上,而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個(gè)數(shù)字,這是某機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的,2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)的銷售情況,從這張表可以看出來(lái),小米7nm的EUV光刻機(jī),ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機(jī)上,僅有尼康、ASML能夠推出,尼康也就是打醬油,僅賣出4臺(tái),另外的
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上海微電子:以面向市場(chǎng)做成產(chǎn)品為目標(biāo)

  •   半導(dǎo)體設(shè)備特別是光刻機(jī)技術(shù)難度很大,它對(duì)整個(gè)國(guó)家的工業(yè)基礎(chǔ)要求非常高,對(duì)國(guó)家創(chuàng)新能力及技術(shù)水平的提高作用很大,因此國(guó)家發(fā)展半導(dǎo)體設(shè)備裝備產(chǎn)業(yè)的決策非常正確。   但是,由于不同的設(shè)備制造難度、自身特點(diǎn)及市場(chǎng)規(guī)律不同,會(huì)存在不同的發(fā)展策略和思路,因此做法上不能千篇一律。每個(gè)公司的發(fā)展策略不同,我們現(xiàn)在強(qiáng)調(diào)的是,第一不能做假,第二要勇于創(chuàng)新。我們想建一座高樓大廈,隱蔽工程也就是地基要做得很扎實(shí),只有地基深厚,微電子設(shè)備產(chǎn)業(yè)的大廈才能建得更高。   發(fā)展半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè),應(yīng)發(fā)展重點(diǎn)產(chǎn)品,不該面面俱到。盡管
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上海微電子介紹

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