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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 產(chǎn)綜研

產(chǎn)綜研聯(lián)合東京大學(xué)研制出采用強(qiáng)電介質(zhì)NAND閃存單元

  •   日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所(產(chǎn)綜研)與東京大學(xué),聯(lián)合研制出了采用強(qiáng)電介質(zhì)柵極電場效應(yīng)晶體管(Ferroelectric gate field-effect transistor:FeFET)的NAND閃存存儲(chǔ)單元??刹翆?億次以上,寫入電壓為6V以下。而此前的NAND閃存存儲(chǔ)單元只能擦寫1萬次,且寫入電壓為20V。以往的NAND閃存只能微細(xì)化到30nm左右,而此次的存儲(chǔ)單元技術(shù)還可以支持將來的20nm和10nm工藝技術(shù)。     此次,通過調(diào)整p型Si底板溝道中所注入雜質(zhì)的條件,使NAND
  • 關(guān)鍵字: FeFET  NAND閃存  東京大學(xué)  產(chǎn)綜研  

產(chǎn)綜研分離金屬性與半導(dǎo)體性碳納米管

  •  日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所日前提出了在單層碳納米管(SWCNT)中有選擇地分離金屬性SWCNT和半導(dǎo)體性SWCNT的方法。    首先在雙氧水中對金屬性SWCNT和半導(dǎo)體性SWCNT混合而成的市售SWCNT(金屬性SWCNT占1/3)進(jìn)行熱處理,利用半導(dǎo)體性SWCNT先于金屬性SWCNT發(fā)生氧化和燃料的原理,成功地將金屬性SWCNT的含量濃縮到了80%。金屬性SWCNT有望作為透明電極材料取代ITO(銦錫氧化物)。另外,由于有望能夠?qū)WCNT結(jié)構(gòu)進(jìn)行有選擇地控制,因此將來通過有選擇地提取半導(dǎo)體性
  • 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體性  產(chǎn)綜研  金屬性  嵌入式系統(tǒng)  碳納米管  
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產(chǎn)綜研介紹

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