首頁　 資訊　 商機 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會展　 EETV　 百科 　 問答　 電路圖　 工程師手冊 　 Datasheet　 100例 　 活動中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光刻設(shè)計

KLA-TENCOR推出面向光刻設(shè)計檢測方案

  •       KLA-Tencor正式發(fā)布了業(yè)界第一套用于 post-RET（分辨率增強技術(shù)）掩膜版設(shè)計版面 (reticle design layout)檢測的完整芯片光刻制程工藝窗口(lithography process window)（允許誤差空間）檢測系統(tǒng)。DesignScan 能使芯片生產(chǎn)商減少掩膜版的設(shè)計修正次數(shù)，獲得高成品率的設(shè)計，以實現(xiàn)更好的參數(shù)化設(shè)計性能和快速的上市時間
  • 關(guān)鍵字： KLA-TENCOR  方案  光刻設(shè)計  檢測  其他IC  制程  
共1條 1/1 1

光刻設(shè)計介紹

您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條光刻設(shè)計!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對光刻設(shè)計的理解，并與今后在此搜索光刻設(shè)計的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473