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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 紫外線工藝

DELO推出用于扇出型晶圓級封裝的紫外線工藝

  • DELO 為扇出型晶圓級封裝 (FOWLP) 開發(fā)了一項新工藝。可行性研究表明，使用紫外線固化模塑材料代替熱固化材料，可顯著減少翹曲和芯片偏移。此外，這還能縮短固化時間，最大限度地降低能耗。扇出型晶圓級封裝將眾多芯片封裝在一個載體上，是半導體行業(yè)一種成本效益較高的方法。但這種工藝的典型副作用是翹曲和芯片偏移。盡管晶圓級和面板級的扇出型技術不斷精進，但這些與模塑成型相關的問題依然存在。翹曲是由于液態(tài)壓縮模塑化合物 (LCM) 在模塑后的固化和冷卻期間發(fā)生化學收縮而造成的。造成翹曲的第二個原因是硅芯片、成型材
  • 關鍵字： DELO  扇出型  晶圓級封裝  紫外線工藝  
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紫外線工藝介紹

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