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通過(guò)工藝建模進(jìn)行后段制程金屬方案分析

• ●? ?由于阻擋層相對(duì)尺寸及電阻率增加問(wèn)題，半導(dǎo)體行業(yè)正在尋找替代銅的金屬線材料。●? ?在較小尺寸中，釕的性能優(yōu)于銅和鈷，因此是較有潛力的替代材料。隨著互連尺寸縮減，阻擋層占總體線體積的比例逐漸增大。因此，半導(dǎo)體行業(yè)一直在努力尋找可取代傳統(tǒng)銅雙大馬士革方案的替代金屬線材料。相比金屬線寬度，阻擋層尺寸較難縮減（如圖1）。氮化鉭等常見的阻擋層材料電阻率較高，且側(cè)壁電子散射較多。因此，相關(guān)阻擋層尺寸的增加會(huì)導(dǎo)致更為顯著的電阻電容延遲，并可能影響電路性能、并增加功耗。圖1
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