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350nm,俄羅斯光刻機(jī)制造完成

  • 5月25日消息,據(jù)外媒報(bào)道稱,俄羅斯首臺光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克指出,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm(0.35μm)的芯片。圖片來源:塔斯社報(bào)道截圖公開資料顯示,350納米尺寸芯片在當(dāng)代較為落后,但是仍然可以應(yīng)用于汽車、能源和電信等多個(gè)行業(yè)。該光刻機(jī)的研制成功對于俄羅斯未來實(shí)現(xiàn)自主生產(chǎn)芯片具有里程碑意義。圖片來源:全球半導(dǎo)體觀察制圖目前,全球光刻機(jī)的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。據(jù)外媒公開消息,俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠,分別是Mikron
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俄羅斯首臺光刻機(jī)問世

  • 據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分,目前正在對其進(jìn)行測試,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出,到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機(jī),下一步將是開發(fā)90nm光刻機(jī),并繼續(xù)向下邁進(jìn)。此前,俄羅斯曾表示,計(jì)劃到2026年實(shí)現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點(diǎn)工藝,2027年實(shí)現(xiàn)28nm本土芯片制造,到2030年實(shí)現(xiàn)14nm國產(chǎn)芯片制造。
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