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澳大利亞研制納米電子束曝光系統(tǒng)

• 　　據(jù)澳大利亞莫納什大學(xué)網(wǎng)站報(bào)道,澳大利亞研究人員正在研制世界最強(qiáng)大的納米設(shè)備之一——電子束曝光系統(tǒng)(EBL).該系統(tǒng)可標(biāo)記納米級(jí)的物體,還可在比人發(fā)直徑小1萬倍的粒子上進(jìn)行書寫或者蝕刻. 　　電子束曝光技術(shù)可直接刻畫精細(xì)的圖案,是實(shí)驗(yàn)室制作微小納米電子元件的最佳選擇.這款耗資數(shù)百萬美元的曝光系統(tǒng)將在澳大利亞亮相,并有能力以很高的速度和 定位精度制出超高分辨率的納米圖形.該系統(tǒng)將被放置在即將完工的墨爾本納米制造中心(MCN)內(nèi),并將于明年3月正式揭幕. 　　MCN的臨時(shí)負(fù)責(zé)人阿
• 關(guān)鍵字： 納米  EBL  蝕刻.